A. O. Ageev, B. G. Konoplev, V. V. Polyakov, A. M. Svetlichnyi, V. A. Smirnov
Một nghiên cứu thực nghiệm được báo cáo về ảnh hưởng của bức xạ UV hoặc IR không đồng nhất lên quá trình nano lithography bằng phương pháp oxy hóa anod địa phương do đầu kim gây ra, áp dụng cho các màng titan. Cả hai hình thức bức xạ đều được phát hiện là làm tăng độ đồng nhất của kích thước các đặc trưng và cải thiện độ phân giải của kỹ thuật lithography. Nghiên cứu cũng chỉ ra rằng bức xạ UV cho phép tạo ra một kênh dẫn với chiều rộng 11 nm.