Quang hỗ trợ nano lithography quét trên màng Ti

Pleiades Publishing Ltd - Tập 36 - Trang 353-357 - 2007
A. O. Ageev1, B. G. Konoplev1, V. V. Polyakov1, A. M. Svetlichnyi1, V. A. Smirnov1
1Taganrog State University of Radioengineering, Taganrog, Russia

Tóm tắt

Một nghiên cứu thực nghiệm được báo cáo về ảnh hưởng của bức xạ UV hoặc IR không đồng nhất lên quá trình nano lithography bằng phương pháp oxy hóa anod địa phương do đầu kim gây ra, áp dụng cho các màng titan. Cả hai hình thức bức xạ đều được phát hiện là làm tăng độ đồng nhất của kích thước các đặc trưng và cải thiện độ phân giải của kỹ thuật lithography. Nghiên cứu cũng chỉ ra rằng bức xạ UV cho phép tạo ra một kênh dẫn với chiều rộng 11 nm.

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Valiev, K.A., Lukichev, V.F., and Orlikovsky, A.A., Silicon Nanoelectronics: Challenges and Prospects, Nanotekhnol. Mater., 2005, no. 1, pp. 17–19.

Nano-i mikrosistemnaya tekhnika. Ot issledovanii k razrabotkam (Nano-and Microsystems: Progressing from Research to Engineering), Mal’tsev, P.P., Ed., Moscow: Tekhnosfera, 2005.

Nanotekhnologii v elektronike (Nanotechnologies in Electronics), Chaplygin, Yu.A., Ed., Moscow: Tekhnosfera, 2005.

Nevolin, V.K., Zondovye tekhnologii v elektronike (Scanning-Probe Technologies in Electronics), Moscow: Tekhnosfera, 2005.

Aseev, A.L., Nanotekhnologii v poluprovodnikovoi elektronike (Nanotechnologies in Semiconductor Electronics), Novosibirsk: SO RAN, 2004.

Bobrinetskii, I.I., Korneev, N.V., and Nevolin, V.K., Charge Transport through Planar Metal Nanotapers, Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved., Elektron., 2001, no. 3, pp. 17–21.

Sokolov, D.V., Reproducibility of the Nanoscale Oxidation of n-In0.53Ga0.47As Using an Atomic-Force Microscope, Mikrosist. Tekh., 2001, no. 5, pp. 25–29.

Ageev, O.A., Kolomiitsev, A.S., Polyakov, V.V., Svetlichnyi, A.M., and Smirnov, V.A., Investigation of the Local Anodic Oxidation of a Titanium Film under Stimulation by Ultraviolet Radiation, in Trudy MNK “Tonkie plenki i nanostruktury (PLENKI-2005)” (Proc. Int. Sci. Conf. on Thin Films and Nanostructures, FILMS-2005), Moscow, 2005, vol. 1, pp. 160–163.

Sechenov, D.A., Svetlichnyi, A.M., and Polyakov, V.V., Fotostimulirovannye tekhnologicheskie protsessy v kremnievykh strukturakh (Photoassisted Fabrication Procedures for Silicon Structures), Taganrog: TRTU, 2002.

Kasimov, F.D., Guseinov, Ya.Yu., Svetlichnyi, A.M., Polyakov, V.V., and Kocherov, A.N., Fotostimulirovannye protsessy okisleniya karbida kremniya (Photoassisted Oxidation Processes for Silicon Carbide), Baku: Mutardzhim, 2005.

Song, A.M., Room-Temperature Ballistic Nano-Devices, in Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology, American Scientific Publishers, 2004, vol. 9, pp. 371–389.

Dubois, E. and Bubbendor, J.-L., Nanometer Scale Lithography on Silicon, Titanium, and PMMA Resist Using Scanning Probe Microscopy, Solid-State Electron., 1999, vol. 43, pp. 1085–1089.

Irmer, B., Kehrle, M., Lorens, H., and Kotthaus, J., Nanolithography by Non-Contact AFM-Induced Local Oxidation: Fabrication of Tunneling Barriers Suitable for Single-Electron Devices, Semicond. Sci. Technol., 1998, vol. 13, pp. 79–82.

Thông tin
Thông tin xuất bản

Pleiades Publishing Ltd

Tập 36

353-357

Thông tin tác giả