Plasma Chemistry and Plasma Processing

Công bố khoa học tiêu biểu

* Dữ liệu chỉ mang tính chất tham khảo

Sắp xếp:  
Plasma etching of III–V semiconductors in BCl3 chemistries: Part II: InP and related compounds
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 17 - Trang 169-179 - 1997
J. W. Lee, J. Hong, E. S. Lambers, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, W. S. Hobson, F. Ren
Announcement
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 8 - Trang 347-347 - 1988
Enhancement Propagation of Protocorms in Orchid (Cymbidium tracyanum L. Castle) by Cold Atmospheric Pressure Air Plasma Jet
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 41 Số 2 - Trang 573-589 - 2021
Sorapong Pavasupree, Nattapong Chanchula, Atipong Bootchanont, Chakkaphan Wattanawikkam, Pinit Jitjing, Dheerawan Boonyawan, Porramain Porjai
Remarks Relative to the Use of Atmospheric Plasma-Pulsed Discharge for PET Bottles Instant Sterilization
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 20 - Trang 159-161 - 2000
Pavel Koulik
A Survey of Chemical Nonequilibrium in Argon Arc Plasma
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 37 - Trang 513-530 - 2016
Margarita Baeva
Ảnh hưởng của tần số kích thích plasma đến việc lắng đọng màng mỏng a-Si:H Dịch bởi AI
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 7 - Trang 267-273 - 1987
H. Curtins, N. Wyrsch, M. Favre, A. V. Shah
#tần số kích thích plasma #lắng đọng màng mỏng #silicon vô định hình #tốc độ lắng đọng #tính chất quang học #tính chất điện
Erratum to: Production of Reactive Oxygen Species and Application for NOx Control
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 34 - Trang 1447-1447 - 2014
Mindi Bai, Baiyu Leng, Shoulei Mao
Pulsed Plasma Assisted Growth of Vertically Aligned Carbon Nanotubes at Low Temperature on Mo Substrate
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 35 - Trang 247-257 - 2014
Mahananda Baro, Arup R. Pal
Plasma polymerization of carbosilanes: Tetramethylsilane as a model monomer for reactivity study of silylmethyl groups
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 10 - Trang 277-289 - 1990
A. M. Wróbel, G. Czeremuszkin, H. Szymanowski, J. Kowalski
Measurement of Spatial Distributions of Electron Density and Electron Temperature in Direct Current Glow Discharge by Double Langmuir Probes
Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 22 - Trang 297-311 - 2002
Wei-Han Tao, Hirotsugu K. Yasuda
Tổng số: 1,528   
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • 10