Ảnh hưởng của trường RF bên ngoài đến sự phóng điện beam-plasma trong một trường từ

Nghiên cứu thực nghiệm về ảnh hưởng của trường RF lên sự phóng điện steady-state beam-plasma với một điện cực phẳng đặt song song với một chùm điện tử dạng tấm. Các tham số plasma được đo bằng một cảm biến đơn, và hàm phân bố electron được xác định bằng cách sử dụng một máy phân tích tĩnh điện. Năng lượng và dòng điện của chùm electron lần lượt là E B=2.5 keV và J B=0.05–1.5 A. Áp suất làm việc là p=2×10−5–10−3 torr. Tần số của trường RF bên ngoài là 13.56 MHz. Cả hai chế độ steady-state trong đó trường RF không tác động đến các tham số plasma và các chế độ có tác động rõ rệt của trường RF đều được quan sát. Các thí nghiệm cho thấy rằng chế độ của sự phóng điện phụ thuộc rất mạnh vào mật độ plasma và trường từ. Sự không ổn định tham số được nghiên cứu lý thuyết trong sự xấp xỉ rối loạn yếu. Kết quả cho thấy rằng, do bản chất phân rã của quang phổ dao động plasma, sự khởi đầu của không ổn định đi kèm với việc chuyển giao năng lượng của các dao động qua quang phổ, từ tần số bơm hướng tới các bội số của nó.