Plasma Chemistry and Plasma Processing

Tạp chí khoa học

Plasma Chemistry and Plasma Processing

SCOPUS (1981-2025)SCIE-ISI
ISSN
1572-8986
E-ISSN
0272-4324
Cơ quan chủ quản
SPRINGER , Springer New York
Lĩnh vực
Surfaces, Coatings and FilmsCondensed Matter PhysicsChemical Engineering (miscellaneous)Chemistry (miscellaneous)

Phân tích ảnh hưởng

Chỉ số Impact Factor, số công bố và trích dẫn của tạp chí theo từng năm.

Các bài báo tiêu biểu

Những công bố được trích dẫn nhiều nhất của tạp chí.