Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Nghiên cứu quang học về các gốc tự do (OH, O, H, N) trong sự phóng corona streamer âm tĩnh điện có xung trong phản ứng kim loại hình chóp điện
Tóm tắt
Quang phổ phát xạ quang đã được áp dụng để nghiên cứu các gốc OH và các nguyên tử hoạt động O, H, N được tạo ra bởi sự phóng corona streamer âm tĩnh điện với điện áp cao từ hỗn hợp khí N2 và H2O trong một reactor hình kim chóp ở áp suất một atm. Các quần thể dao động tương đối và nhiệt độ dao động của N2(C, v′) đã được xác định. Các ảnh hưởng của điện áp đỉnh xung, tần số lặp lại xung, và sự bổ sung O2 đến các quần thể tương đối của các gốc OH(A2Σ), O(3p5P), Hα (3P), và các nguyên tử hoạt động N(3p4P) đã được khảo sát. Kết quả cho thấy các quần thể tương đối của các gốc này tăng lên theo điện áp đỉnh xung và tần số lặp lại xung. Trong khi đó, quần thể tương đối của các gốc OH(A2Σ) giảm khi tốc độ dòng O2 tăng, trong khi các quần thể tương đối của O (3p5P), Hα (3P), và N (3p4P) có sự cực trị trong khoảng nghiên cứu của tốc độ dòng O2. Các quá trình vật lý hóa liên quan cũng đã được thảo luận.
Từ khóa
#quang phổ phát xạ quang #gốc tự do #O2 #N2 #H2O #corona streamerTài liệu tham khảo
Mizuno A, Clements JS, Davis RH (1986) IEEE Trans Ind Appl 22:516
Dahiya RP, Mishra SK, Veefkind A (1993) IEEE Trans Plasma Sci 21:346
Sugiarto AT, Ito S, Ohshima T, Sato M, Skalny JD (2003) J Electrostatics 58:135
Lowke JJ, Morrow R (1995) IEEE Trans Plasma Sci 23:661
Abou-Ghazala A, Katsuki S, Schoenbach KH, Dobbs FC, Moreira KR (2002) IEEE Trans Plasma Sci 30:1449
Yamamoto M, Nishioka M, Sadakata M (2002) J Electrostatics 56:173
Nair SA, Pemen AJM, Yan K, van Heesch EJM, Ptasinski KJ, Drinkenburg AAH (2003) Plasma Chem Plasma Process 23:665
Roland U, Holzer F, Kopinke FD (2002) Catal Today 73:315
Sobacchi MG, Saveliev AV, Fridman AA, Gutsol AF, Kennedy LA (2003) Plasma Chem Plasma Process 23:347
Mok YS, Ham SW, Nam IS (1998) Plasma Chem Plasma Process 18:535
Yan KP, van Heesch EJM, Pemen AJM, Huijbrechts PAHJ (2001) J Electrostatics 51–52:218
Liu F, Wang WC, Wang S, Ren CS, Wang YN (2005) Plasma Sci Technol 7:2851
Lozovsky VA, Derzy I, Cheskis S (1998) Chem Phys Lett 284:407
Joshi AA, Locke BR, Arce P, Finney WC, (1995) J Hazard Mater 41:3
Lee SS, Minsek DW, Vestvck DJ (1994) Science 263:1596
Gijcquel A, Hassouni K, Silva F, Achard J (2001) Cur Appl Phys 1:479
Umemoto H, Nozaki Y, Kitazoe M, Horii K, Ohara K, Morita D, Uchida K, Ishibashi Y, Komoda M, Kamesaki K, Izumi A, Masuda A, Matsumura H (2002) J Non-crystalline Solids 299–302:9
Kiyooka H, Matsumoto O (1996) Plasma Chem Plasma Process 16:547
Ono R, Oda T (2001) IEEE Trans Ind Appl 37:709
Ono R, Oda T (2000) IEEE Trans Ind Appl 36:82
Ono R, Oda T, Proc (1999) Thirty-Fourth IAS Annual Meeting, Industry Applications Conference, Conference Record of the 1999 IEEE 3:1461
Ono R, Oda T (2002) J Phy D: Appl Phys 35:2133
Sun B, Sato M, Harano A, Clements JS (1998) J Electrostatics 43:115
Su Z, Kim HH, Tsutsui M, Takashima K, Mizuno A (1999) Proc Thirty-Fourth IAS Annual Meeting, Industry Applications Conference, Conference Record of the 1999 IEEE 3:1473
Park CW, Hahn JW, Shin DN (1999) Proc the Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics. CLEO/Pacific Rim (1999) 2:356
Wang WC, Liu F, Zhang JL, Ren CS (2004) Spectrosc Spect Anal 24:1288
Tang SK, Wang WC, Liu JH, Yang XF, Wu Y (2000) J Vac Sci Technol A 18:2213
Wang WC, Belyaev AK, Xu Y, Zhu AM, Xiao C, Yang XF (2003) Chem Phys Lett 377:512
Wang WC, Xu Y, Wang WG, Zhu AM, (2004) J Phys D: Appl Phys 37:1185
Sun M, Wu Y, Li J, Wang NH, Wu J, Shang KF, Zhang JL (2005) Plasma Chem Plasma Process 25:31
Masuda S, Nakao H (1990) IEEE Trans Ind Appl 26:374
Roth GJ, Gundersen MA (1999) IEEE Trans Plasma Sci 27:28
Horváth M, Kiss E (2005) J Electrostatics 63:993
van Veldhuizen EM, Rutgers WR (2002) J Phys D: Appl Phys 35:2169
Namihira T, Wang D, Katsuki S, Hackam R, Akiyama H (2003) IEEE Trans Plasma Sci 31:1091
Li Q, Ning C, Zhou WJ, Li J (1994) Environ Protect 3:17
Ono R, Oda T (2003) J Phys D: Appl Phys 36:1952
Eichwald O, Yousfi M, Hennad A, Benabdessadok MD (1997) J Appl Phys 82:4781
Suchard SN (1975) Spectroscopic data: Vol. 1, Homonuclear diatomic molecules part B. The Arospace Corporation Los Angeles, California, p 382