Investigation of different oxidation processes for porous silicon studied by spectroscopic ellipsometry

Thin Solid Films - Tập 276 - Trang 36-39 - 1996
U Frotscher1, U Rossow1, M Ebert1, C Pietryga1, W Richter1, M.G Berger2, R Arens-Fischer2, H Münder2
1Institut für Festkörperphysik, Sekr. PN6-1, TU Berlin, Hardenbergstr. 36, D-10623 Berlin, Germany
2Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Thin Solid Films

Tập 276

36-39

Thông tin tác giả