Phóng điện RF cảm ứng áp suất thấp trong trường từ

A.M. Bystrov1, M.E. Guschin1, A.V. Kostrov1, A.V. Strikovsky1, A.I. Smirnov1, K. Krafft2
1RAS, Institute of Applied Physics, N.Novgorod, Russia
2University of Paris-South-National Center of Scientific Research, Orsay, France

Tóm tắt

Bài báo này nghiên cứu quá trình phóng điện RF cảm ứng ở áp suất thấp được sử dụng để tạo ra plasma trong một buồng chân không lớn với cấu hình bẫy của trường từ. Nhiệm vụ chính của bài báo là xác định các vùng có khả năng ion hóa hiệu quả và sự trao đổi năng lượng giữa trường RF và plasma.

Từ khóa

#Trường từ #Mật độ plasma #Đo plasma #Cảm biến #Che chắn từ #Đo trường từ #Cuộn cảm #Nhiệt độ plasma #Đo mật độ #Electrons

Tài liệu tham khảo

boswell, 1997, The Past Decade, IEEE Transaction on Plasma Science, 25, 1245, 10.1109/27.650899 10.1109/27.650898 10.1063/1.1134697 10.1088/0963-0252/7/4/011 popov, 1995, High density plasma sources, Matsushita Electric Works Woburn, 426