Kính hiển vi và Gia công Bằng Chùm Ion Tập Trung

MRS Bulletin - Tập 32 Số 5 - Trang 389-399 - 2007
Cynthia A. Volkert, Alexander Minor

Tóm tắt

Tóm tắtSự xuất hiện gần đây của các kính hiển vi chùm ion tập trung (FIB) thương mại đã dẫn đến sự phát triển nhanh chóng trong các ứng dụng của chúng cho khoa học vật liệu. Các thiết bị FIB vừa có khả năng hình ảnh vừa có khả năng gia công vi mô ở quy mô nanomet đến micromet; do đó, nhiều nghiên cứu cơ bản và các ứng dụng công nghệ đã được tăng cường hoặc trở nên khả thi nhờ công nghệ FIB. Bài báo giới thiệu này đề cập đến những thiết bị FIB cơ bản và những nguyên lý cơ bản của sự tương tác giữa ion và vật rắn dẫn đến nhiều khả năng độc đáo của FIB cũng như một số hiện tượng không mong muốn liên quan đến các thiết bị FIB. Bốn bài báo chuyên đề theo sau bài giới thiệu này cung cấp cái nhìn tổng quan về các ứng dụng cụ thể của FIB trong khoa học vật liệu, tập trung vào những điểm mạnh đặc biệt của nó như một công cụ để phân tích và chuẩn bị mẫu kính hiển vi điện tử truyền qua, cũng như tiềm năng của nó trong gia công bằng chùm ion và chế tạo mẫu thử.

Từ khóa

#kính hiển vi chùm ion tập trung #khoa học vật liệu #gia công vi mô #chuẩn bị mẫu #kính hiển vi điện tử

Tài liệu tham khảo

10.1017/CBO9780511565007

Benninghoven, 1987, Secondary Ion Mass Spectrometry: Basic Concepts, Instrumental Aspects, Applications and Trends

10.1007/b101190

10.1046/j.1365-2818.1999.00476.x

18. Ziegler J.F. , Biersack J.P. , Littmark U. , The Stopping Range of Ions in Solids (Pergamon Press, New York, 1984). The SRIM code is available online at www.srim.org (accessed February 2007).

10.1116/1.583937

10.1016/j.apsusc.2004.06.101

10.1111/j.0022-2720.2004.01352.x

10.1007/s11661-998-0116-z

Carlslaw, 1959, Conduction of Heat in Solids, 264

10.1116/1.586024

10.21236/AD0696987

10.1063/1.365193

10.1016/S1359-6462(03)00474-3

10.1063/1.88540

Orloff, 2002, High Resolution Focused Ion Beams: FIB and its Applications

Ishitani, 1994, J. Electron Microsc, 43, 322

5. For example, FEI Co., Carl Zeiss Inc., Seiko Instruments Inc., Hitachi Inc., JEOL Ltd., Orsay Physics.

Williams, 1984, Ion Implantation and Beam Processing

32. Sigle W. , private communication (2002).

Prewitt, 1987, Focused Ion Beams from Liquid Metal Ion Sources, 291

10.1063/1.1144104

10.1116/1.1417553

10.1116/1.589643

10.1103/PhysRevLett.94.016102

10.1116/1.1368670

10.1080/14786430600567739

10.1126/science.1117219

10.1103/PhysRev.184.383

10.1093/jmicro/51.4.207

Park, 2002, J. Appl. Phys, 91, 6380

10.1063/1.90786

10.1116/1.588663

10.1016/0167-5087(83)91005-0

10.1007/s00339-002-1943-1

10.1007/BF00754888

Ishitani, 1995, J. Electron Microsc, 44, 331

Thông tin
Thông tin xuất bản

MRS Bulletin

Tập 32 Số 5

389-399

Thông tin tác giả