Phát quang điện và Phát quang quang học của các phim polymer liên hợp được chuẩn bị bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường bằng plasma từ Naphthalene

Plasma Chemistry and Plasma Processing - Tập 33 - Trang 817-826 - 2013
M. Rajabi1, A. R. Ghassami1, M. Abbasi Firouzjah1, S. I. Hosseini2, B. Shokri1,3
1Laser and Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University, G.C., Evin, Tehran, Iran
2Physics Department, Shahrood University of Technology, Shahrood, Iran
3Physics Department, Shahid Beheshti University G.C., Evin, Tehran, Iran

Tóm tắt

Các thiết bị phát quang polymer đã được chế tạo bằng cách sử dụng các lớp phim mỏng polyme đã được polymer hóa bằng plasma làm lớp phát quang. Các phim polymer liên hợp này được chuẩn bị bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường bằng plasma RF với naphthalene là monomer. Tác động của các công suất khác nhau lên cấu trúc hóa học và các tính chất quang học của các polymer liên hợp đã được điều tra. Quang phổ hồng ngoại biến đổi Fourier (FTIR) và quang phổ Raman đã xác nhận rằng một phim polymer liên hợp với mạng chéo 3-D đã được phát triển. Bằng cách tăng công suất, các sản phẩm có xu hướng hình thành dưới dạng các phim polymer chéo liên kết mạnh mẽ. Các thiết bị được chế tạo cho thấy các đỉnh phát quang điện (EL) băng tần rộng với tâm tại 535–550 nm. Quang phổ phát quang (PL) của các polymer plasma cho thấy các phát xạ excimer khác nhau, là kết quả từ kiến trúc chéo liên kết. Khi công suất plasma tăng, các tính chất quang học cho thấy hai miền khác nhau; lên đến 200 W, các quang phổ EL, PL và UV–Vis đã chuyển dịch sang đỏ và mở rộng đáng kể. Ở các công suất cao hơn, một hành vi ngược lại đã được quan sát. Ngoài ra, mối quan hệ giữa cấu trúc phim và các loài plasma cũng đã được điều tra bằng quang phổ phát xạ quang học.

Từ khóa

#polymer phát quang #lớp phim polymer liên hợp #lắng đọng hơi hóa học #plasma #phát quang điện #phát quang quang học #quang phổ FTIR #quang phổ Raman

Tài liệu tham khảo

Friend RH, Gymer RW, Holmes AB, Burroughes JH, Marks RN, Taliani C, Bradley DDC, Dos Santos DA, das Bre JL, LoÈ gdlund M, Salaneck WR (1999) Nature 397:121–128 Mitschke U, BaÈuerle P (2000) J Mater Chem 10:1471–1507 Li Z, Meng H (2007) Organic light emitting materials and devices. CRC Press, New York Kalinowski J (1999) J Phys D 32:R179 Sheats JR, Antoniadis H, Hueschen M, Leonard W, Miller J, Moon R, Roitman D, Stocking A (1996) Science 273:884–888 Bin TN, Ibrahim T, Tanaka K, Uchiki H (2008) Jpn J Appl Phys 47:794–796 Kraft A, Grimsdale AC, Holmes AB (1998) Angew Chem Int Ed 37:402–428 Sun R, Peng J, Kobayashi T, Ma Y, Zhang H, Liu S (1996) Jpn J Appl Phys 35:1506–1508 Chang CC, Chang YH, Hwang KC, Jou JH, Yang ACM (2011) Plasma Process Polym 8:215–223 Zhao XY (2009) J Appl Polym Sci 112:1858–1862 Biederman H, Osada Y (1992) Plasma polymerization processes. Elsevier, New York Silverstein MS, Visoly-Fisher I (2002) Polymer 43:11–20 Hai-feng Z, Yu-guang M, Wen-jing T, Jia-cong S, Jian-guo T, Shi-yong L (1996) Chin Phys Lett 13:794–797 Favia P, Creatore M, Palumbo F, Colaprico V, d’Agostino R (2001) Surf Coat Technol 142:1–6 Vassallo E, Laguardia L, Catellani M, Cremona A, Dellera F, Ghezzi F (2007) Plasma Process Polym 4:801–805 Hartney MA, Greene WM, Hess DW, Soong DS (1987) SPIE Adv Resist Technol Process 771:353–357 Labelle CB, Gleason KK (2001) J Appl Polym Sci 80:2084–2092 Dû GL, Celini N, Bergaya F, Poncin-Epaillard F (2007) Surf Coat Technol 201:5815–5821 Vandevelde T, Nesladek M, Quaeyhaegens C, Stals L (1996) Thin Solid Films 290:143–147 Choudhury AJ, Chutia J, Barve SA, Kakati H, Pal AR, Jagannath, Mithal N, Kishore R, Pandey M, Patil DS (2011) Prog Org Coat 70:75–82 Kim MC, Cho SH, Han JG, Hong BY, Kim YJ, Yang SH, Boo JH (2003) Surf Coat Technol 169:595–599 Jiang H, Johnson WE, Grant JT, Eyink K, Johnson EM, Tomlin DW, Bunning TJ (2003) Chem Mater 15:340–347 Suwa T, Jikei M, Kakimoto M, Imai Y, Tanaka A, Yoneda K (1996) Thin Solid Films 273:258–262 Yase K, Horiuchi S, Kyotani M, Yamamoto K, Yaguchi A, Futaesaku Y, Suwa T, Kakimoto M, Imai Y (1996) Jpn J Appl Phys 35:657–660 Seoul C, Song WJ (2001) J Mater Sci Mater Electron 12:51–55 Park SM, Ebihara K, Ikegami T, Lee BJ, Lim KB, Shin PK (2007) Curr Appl Phys 7:474–479 Jobanputra MC, Durstock MF, Clarson SJ (2003) J Appl Polym Sci 87:523–528 Huang Z, Qu L, Shi G, Chen F, Hong X (2003) J Electroanal Chem 556:159–165 Suwa T, Jikei M, Kakimoto M, Imai Y (1995) Jpn J Appl Phys 34:6503–6508 Yua C, Wanga SC, Sosnowski M, Iqbal Z (2008) Synth Met 158:425–429 Zhang J, Liu C, Shi G, Zhao Y (2005) J Polym Sci B Polym Phys 43:241–251 Hernandez K, Veronelli M, Favaretto L, Navarrete JTL, Jones D, Zerbi G (1996) Acta Polymer 47:62–65 Mori T, Kijima M (2007) Opt Mater 30:545–552 Mori T, Kijima M (2008) J Polym Sci A Polym Chem 46:4258–4263 Mori T, Kijima M (2009) Eur Polymer J 45:1149–1157 Meskers SCJ, Janssen RAJ, Haverkort JEM, Wolter JH (2000) Chem Phys 260:415–439