Dây nano silicon mọc từ nhôm xúc tác trên cơ sở thiết bị lắng đọng pha hơi hóa học sử dụng plasma (PECVD) treeb đế thạch anh cho ứng dụng tế bào pin năng lượng mặt trời
Nội dung không tổn tại trên Scholar Hub
Scholar Hub chỉ hỗ trợ tìm kiếm thông tin và hỗ trợ người sử dụng trích dẫn đúng chuẩn.
Scholar Hub KHÔNG đăng thông tin tổng hợp, KHÔNG đăng lại nội dung từ các trang báo chí Việt Nam hoặc trang thông tin điện tử khác tại Việt Nam.
Để xem được chi tiết nội dung, xin vui lòng truy cập vào website tạp chí.