Chemical etching of silicon assisted by graphene oxide

Japanese Journal of Applied Physics - Tập 58 Số 5 - Trang 050924 - 2019
Wataru Kubota1, Ryuko Ishizuka1, Toru Utsunomiya1, Takashi Ichii1, Hiroyuki Sugimura1
1Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University, Kyoto, 606-8501, Japan

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

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Japanese Journal of Applied Physics

Tập 58 Số 5

050924

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