Lithography Copolymer Chặn: Kết hợp Quy trình "Từ Dưới Lên" và "Từ Trên Xuống"
Tóm tắt
Khi kích thước của các tính năng thiết bị ngày càng nhỏ, các quy trình lithography thông thường ngày càng trở nên khó khăn và tốn kém, đặc biệt là với kích thước tối thiểu dưới 45 nm. Do đó, để đạt được các mạch tích hợp với mật độ cao hơn, thiết bị lưu trữ hoặc màn hình, rõ ràng cần phát triển các phương pháp thay thế nhằm tránh cả vấn đề chi phí và sản xuất.
Một quy trình lý tưởng sẽ tương thích với các quy trình công nghệ và kỹ thuật sản xuất hiện có; những chiến lược này, cùng với các vật liệu mới, có thể cho phép đạt được những bước tiến đáng kể trong việc đáp ứng cả nhu cầu ngắn hạn và dài hạn cho các thiết bị có mật độ cao hơn và nhanh hơn. Việc tự lắp ráp của các copolymer chặn (BCPs), hai chuỗi polymer liên kết cộng hóa trị với nhau ở một đầu, cung cấp một giải pháp vững chắc cho những thách thức này. Dưới dạng phim mỏng, các BCP không hòa tan tự lắp ráp thành một loạt các hình thái có trật tự cao, nơi kích thước của các tính năng chỉ bị giới hạn bởi kích thước của các chuỗi polymer và do đó, có quy mô nanomet.
Từ khóa
Tài liệu tham khảo
Breiner, 1997, Macromolecules, 198, 1051
112. Yang S.Y. , Ryu I. , Kim H.Y. , Jang S.K. , Kim J.K. , and Green P.F. , “Nanoporous Membrane with Ultrahigh Selectivity and Flux Suitable for Filtration of Viruses,” unpublished.
Hashimoto, 1983, Block Copolymers, Science and Technology,, 63
5. Fredrickson G.H. and Bates F.S. , Annu. Rev. Mater. Sci. (1995) p. 1.
Krausch, 1995, Mater. Sci. Eng., R14, 1
Amundson, 1992, Abstracts of Papers of the Am. Chem. Soc., 204, 164
110. Kim D.H. , Lau K.H.A. , Jeong U. , Hawker C.J. , Kim J.K. , Russell T.P. , and Knoll W. , “An optical waveguide study on the nanopore formation in block copolymer/homopolymer thin films by selective solvent swelling,” unpublished.
Pelletier, 2004, Bull. Am. Phys. Soc., 49, 1277
Liu, 1998, Colloid and Interface Sci., 3, 200
84. Drockenmuller E. , Li L.T.T. , Ryu D.Y. , Harth E. , Russell T.P. , Kim H.-C. , and Hawker C.J. , “Covalent Stabilization of Nanostructures: Robust Block Copolymer Templates from Novel Thermo-Reactive Systems,” Adv. Mater. (2006) accepted for publication.
107. Zschech D. , Kim D.H. , Milenin A.P. , Hopfe S. , Scholz R. , Goering P. , Senz S. , Hawker C.J. , Russell T.P. , Steinhart M. , and Goesele U. “High-Temperature-Resistant, Ordered Gold Nanoparticle Arrays,” unpublished.
Liu, 2001, Phys. Rev. B, 6305, 403