C. Dubon-Chevallier, M. Gauneau, J. F. Bresse, A. Izrael and D. Ankri, J. Appl. Phys.59, 3783 (1986).
T. Sanada and O. Wada, Jpn. J. Appl. Phys.19, 491 (1980).
A. Escobosa, H. Krautle and H. Beneking, J. Cryst. Growth,56, 376 (1982).
J. R. Shealy and S. R. Chinn, Appl. Phys. Lett.47, 410 (1985).
J. K. Twynam, H. Sato and T. Kinosada, Electron. Lett.27, 141 (1991).
M. A. Crouch, DRA (Electron. Div.), RSRE, Malvern, (private communications).
H. H. Berger, Solid-State Electron.15, 145 (1972).
F. Xu, D. M. Hill, Z. Lin, S. G. Anderson, Y. Shapira and J. H. Weaver, Phys. Rev. B37, 10295 (1988).
S. P. Kowalozyk, J. R. Waldrop and R. W. Grant, J. Vac. Sci. Technol.19, 611 (1981).
B. M. Henry, A. E. Staton-Bevan, V. K. M. Sharma, M. A. Crouch and S. S. Gill, presented at the Mater. Res. Soc. 1991 Fall Mtg. (Boston), published in MRS Symp. Proc. Vol. 240, Advanced III-V Compound Semiconductor Growth, Processing and Devices, Ed. S. J. Pea, D. K. Sadana and J. M. Zavada, pub. MRS Pittsburg (1992), p. 431.