Electromigration-resistant Cu-Pd alloy films

Thin Solid Films - Tập 226 - Trang 238-247 - 1993
C.W. Park1, R.W. Vook1
1Laboratory for Solid State Science and Technology, Physics Department, Syracuse University, Syracuse, NY 13244, USA

Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Thin Solid Films

Tập 226

238-247

Thông tin tác giả