Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Quang phổ Electron X - SPECTROSCOPY PHOTOELECTRON X CỦA GIAO DIỆN GIỮA CÁC PHIM NGỌC TRAI VÀ CÁC CHÂM PHÁP TANTALUM
Tóm tắt
Các phim kim cương đã được chuẩn bị trong hệ thống lắng đọng hơi hóa học plasma vi sóng (MPCVD) trên các bề mặt Ta bằng cách sử dụng hỗn hợp khí hydro và metan. Các phim được trồng trong khoảng thời gian khác nhau để cung cấp các mẫu không có sự phát triển của kim cương đến phim kim cương liên tục. Các phim đã được phân tích bằng phương pháp quang phổ electron năng lượng răng (XPS) để hiểu rõ các tương tác phụ thuộc vào thời gian giữa bề mặt và dòng carbon đến. Các đỉnh photoelectron trong vùng Ta 4f, C 1s và O 1s đã được phân tích. Trong giai đoạn đầu của quá trình phát triển, một lớp carbide hình thành trên bề mặt. Khi bề mặt trở nên vượt bão hòa với carbon, than chì bắt đầu hình thành trên bề mặt. Một đỉnh kim cương bắt đầu xuất hiện sau khoảng 30 phút lắng đọng.
Từ khóa
#kim cương #lắng đọng hơi hóa học plasma #quang phổ electron năng lượng răng #bề mặt tantalumTài liệu tham khảo
B. Lux and R. Haubner, in Diamond Films and Coatings, edited by R. F. Davis, Noyes Publications, New Jersey, USA (1992). pp. 183–243.
P. C. Jindal, D. T. Quinto, G. J. Wolfe, Thin Solid Films, 154, 361 (1989).
R. C. McCune, D. W. Hoffman, T. J Whalen and C. O. McHugh, Mat Res. Symp. Proc., 130, 261 (1989).
B. Lux and R. Haubner, in Diamond Materials, edited by A. J. Purdes, J. C. Angus, R. F. Davis, B. M. Meyerson, K. E. Spear, and M. Yoder, The Electrochemical Society, Pennington, NJ, (1991), PV 91–8, p. 314.
Y. H. Lee, K. J Bachman, J. T. Glass, Y. M. LeGrice and R. J. Nemanich, Appl. Phys. Lett., 57, 1916 (1990).
M. M. Waite and S. I. Shah, Appl. Phys. Lett, 60, 2346 (1992).
S. I Shah and M. M Waite, Appl. Phys. Lett, 61, 3113 (1992).
Benno Lux and R. Haubner, in Diamond Films and Coatings, edited by R. F. Davis, Noyes Publications, NJ, USA (1992). pp.6.
Y. Mizokawa, T. Miyasato, S. Kakamura, K. Geib, and C. Wimsen, J. Vac. Sci. Technol., A5, 2809 (1987).
S. R. Kasi, H. Kang, and J. W. Rabalais, J. Chem. Phys. 88, 5914 (1988).
J. C. Angus, Z. Li, M. Sunkara, R. Gat A. B. Anderson, S. P. Mehandru, and M. W. Geis, in Diamond Materials, edited by A. J. Purdes, J. C. Angus, R. F. Davis, B. M. Meyerson, K. E. Spear, and M. Yoder, The Electrochemical Society, Pennington, NJ, (1991), PV 91–8, p.125.
D. Briggs and M. P. Seah, in Practical Surface Analysis, John Wiley & Sons Publishers, New York (1987), pp.108–111.