Using the acetylacetonates of zinc and aluminium for the Metalorganic Chemical Vapour Deposition of aluminium doped zinc oxide films

Jagadish, 2011 Özgür, 2005, J. Appl. Phys., 98, 041301, 10.1063/1.1992666 Huang, 2009, Thin Solid Films, 517, 5537, 10.1016/j.tsf.2009.03.194 Chen, 2007, Thin Solid Films, 515, 3753, 10.1016/j.tsf.2006.09.039 Oh, 2005, J. Cryst. Growth, 274, 453, 10.1016/j.jcrysgro.2004.10.026 Birkmire, 1997, Annu. Rev. Mater. Sci., 27, 625, 10.1146/annurev.matsci.27.1.625 Jeong, 2006, Thin Solid Films, 506, 180, 10.1016/j.tsf.2005.08.213 Roy, 2002, Bull. Mater. Sci., 25, 513, 10.1007/BF02710540 Kelchtermans, 2013, RSC Adv., 3, 15254, 10.1039/c3ra41847b Delgado, 2009, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 93, 55, 10.1016/j.solmat.2008.03.020 Lee, 2006, Mater. Sci. Eng: B, 127, 267, 10.1016/j.mseb.2005.10.008 Lee, 2010, Appl. Surf. Sci., 256, 4241, 10.1016/j.apsusc.2010.02.009 T. Gerfin, K.H. Dahmen, CVD of Nonmetals, pp. 151–191. Wang, 2005, J. Cryst. Growth, 284, 319, 10.1016/j.jcrysgro.2005.07.031 Kim, 2008, Thin Solid Films, 516, 5562, 10.1016/j.tsf.2007.07.123 Dadgar, 2004, J. Cryst. Growth, 267, 140, 10.1016/j.jcrysgro.2004.03.028 Kim, 1992, Thin Solid Films, 217, 133, 10.1016/0040-6090(92)90619-M Kashiwaba, 2002, Thin Solid Films, 411, 87, 10.1016/S0040-6090(02)00193-1 Ogawa, 1990, J. Mater. Sci. Lett., 9, 1351, 10.1007/BF00726543 Kamata, 1994, J. Am. Ceram. Soc., 77, 505, 10.1111/j.1151-2916.1994.tb07021.x Nebatti, 2009, ECS Trans., 25, 459, 10.1149/1.3207626 A.E.Muhsin, urn:nbn:de:hbz:464-20070713-111156-3, in: Thermodynamic Department, Duisburg-Essen, Duisburg, 2007. Siddiqi, 2007, Surf. Coat. Technol., 201, 9055, 10.1016/j.surfcoat.2007.04.036 Pflitsch, 2007, Thin Solid Films, 515, 3653, 10.1016/j.tsf.2006.10.007 Ohring, 2001 Yan, 2008, Cryst. Growth Des., 8, 2406, 10.1021/cg7012599 Khandelwal, 2008, Opt. Laser Technol., 40, 247, 10.1016/j.optlastec.2007.04.011 Prepelita, 2010, Appl. Surf. Sci., 256, 1807, 10.1016/j.apsusc.2009.10.011 Qiao, 2006, Thin Solid Films, 496, 520, 10.1016/j.tsf.2005.08.282 Aktaruzzaman, 1991, Thin Solid Films, 198, 67, 10.1016/0040-6090(91)90325-R Ellmer, 2001, J. Phys. D: Appl. Phys., 34, 3097, 10.1088/0022-3727/34/21/301 Minami, 1994, Jpn. J. Appl. Phys., 33, L743, 10.1143/JJAP.33.L743 Lee, 2014, J. Electroceram., 33, 12, 10.1007/s10832-014-9895-3 Igasaki, 1991, J. Appl. Phys., 70, 3613, 10.1063/1.349258 Park, 1997, Thin Solid Films, 305, 201, 10.1016/S0040-6090(97)00215-0 Liu, 2007, Appl. Surf. Sci., 253, 3727, 10.1016/j.apsusc.2006.08.012 Tang, 1994, Thin Solid Films, 238, 83, 10.1016/0040-6090(94)90653-X Wang, 2003, J. Appl. Phys., 94, 1597, 10.1063/1.1592007 Al Asmar, 2005, J. Cryst. Growth, 279, 394, 10.1016/j.jcrysgro.2005.02.035 Tauc, 1974, 159 Mott, 1975, Philos. Mag., 32, 961, 10.1080/14786437508221667 Tan, 2005, J. Cryst. Growth, 281, 571, 10.1016/j.jcrysgro.2005.04.093 Ziegler, 1981, Phys. Status Solidi A, 66, 635, 10.1002/pssa.2210660228 Sernelius, 1988, Phys. Rev. B, 37, 10244, 10.1103/PhysRevB.37.10244 Tan, 2005, J. Phys. Appl., 98, 013505, 10.1063/1.1940137 Fragala, 2009, Chem. Vap. Depos., 15, 327 Gumus, 2006, J. Optoelectron. Adv. Mater., 8, 299