Nghiên cứu vi cấu trúc của lớp phủ đa lớp TiAlN/VN quy mô nano được hình thành bằng phương pháp phun điện từ không cân bằng qua Kính hiển vi điện tử truyền qua và X-Ray phân tích
Tóm tắt
Các lớp TiAlN/VN có cấu trúc NaCl-B1 lập phương với độ dày khoảng 3 nm và tỷ lệ nguyên tử (Ti+Al)/V = 0.98 đến 1.15 và Ti/V = 0.55 đến 0.61 đã được lắng đọng bằng phương pháp phun điện từ không cân bằng ở các điện áp偏 lệch giữa -75 và -150 V. Trong bài báo này, kính hiển vi điện tử truyền qua và phân tích X-ray đã cho thấy sự thay đổi vi cấu trúc rõ rệt tùy thuộc vào偏 lệch. Ở偏 lệch -75 V, TiAlN/VN tuân theo mô hình tăng trưởng lớp dẫn đầu bởi kết cấu (110) mạnh để tạo thành cấu trúc loại T theo mô hình cấu trúc Thornton của các lớp mỏng, điều này dẫn đến mặt tiền tăng trưởng thô, cấu trúc cột dày đặc với các khoảng trống giữa các cột và ứng suất nén thấp -3.8 GPa. Ở các偏 lệch cao hơn, các lớp coating cho thấy cấu trúc loại II điển hình theo mô hình tăng trưởng năng lượng biến dạng, có đặc điểm là cấu trúc cột, các ranh giới cột không có khoảng trống, bề mặt mịn, kết cấu (111) nổi bật, và ứng suất dư cao giữa -8 đến -11.5 GPa.
Từ khóa
#TiAlN/VN #cấu trúc vi mô #kính hiển vi điện tử truyền qua #phương pháp phun điện từ không cân bằng #ứng suất dưTài liệu tham khảo
Geist, 1995, Adv. X-ray Analysis., Adv. X-Ray Anal.
Chu, 1994, Deposition, structure, and hardness of polycrystalline transition-metal nitride superlattice films., J. Mater. Res., 9, 1456