Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Phân Tích Nhiệt Động Lực Học, Một Công Cụ Hữu Ích Cho MOCVD
Tóm tắt
Mặc dù quá trình phân hủy các hợp chất kim loại hữu cơ (MOC) tự nó là một hiện tượng không thể đảo ngược, nhưng bản chất và tỷ lệ của pha lắng đọng trong quá trình MOCVD vẫn phù hợp với những dự đoán được thực hiện dựa trên phân tích nhiệt động lực học. Phương pháp lý thuyết này đặc biệt hấp dẫn đối với các hệ thống tương đối phức tạp, nơi mà nhiều pha có thể xuất hiện và rất thường xuyên hợp chất mong muốn khó thu được dưới dạng vật liệu một pha đơn. Việc kiểm soát các pha phụ là cực kỳ quan trọng nhằm đạt được hoặc duy trì một thuộc tính vật lý nhất định của lớp phim lắng đọng. Do đó, một mô tả nhiệt động lực học chính xác của hệ hóa học đang được nghiên cứu để mô phỏng một quá trình MOCVD nhất định là một công cụ hữu ích để hiểu sâu hơn về các phản ứng diễn ra trên bề mặt chất nền và tối ưu hóa điều kiện quy trình. Kết quả mô phỏng thường được trình bày dưới dạng các biểu đồ lắng đọng cho phép so sánh dễ dàng giữa các dự đoán lý thuyết và kết quả thực nghiệm thực tế. Các ví dụ khác nhau cho phân tích nhiệt động lực học này, bao gồm việc so sánh với các kinh nghiệm trong lĩnh vực gốm điện tử sẽ được đưa ra.
Từ khóa
#MOCVD #phân tích nhiệt động lực học #pha lắng đọng #vật liệu một pha #phim lắng đọng.Tài liệu tham khảo
M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, Chem. Vap. Deposition, 1, 8 (1995).
D. M. Schleich, in the Seven European Conference on Chemical Vapour Deposition Ed. by M. Ducarroir, C. Bernard and L. Vandenbulke (J. Phys. Coll. Sup. C5, 50, 1989), p. 961–979.
G. B. Stringfellow, J. Electron. Mat., 17, 327 (1988).
A. H. Cowley, R. A. Jones, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 28, 1208 (1989).
F. Maury, Adv. Mat. 3, 542 (1991).
F. Maury, in the tenth European Conference on Chemical Vapour Deposition. Ed. by G. Battiston (J. Phys. Coll. Sup. C5, 1995), p. 449–463.
J. Slifirski, PhD Thesis, Université de Perpignan, 1993.
H. E. Fischer, D. J. Larkin, L. V. Interrante, Mat. Res. Soc. Bulletin, 16, 59 (1991).
F. Schuster, PhD Thesis, Institut National Polytechnique de Toulouse, 1990.
F. Schuster, F. Maury, J. F. Nowak, C. Bernard, Surf. Coatings Technol., 46, 275 (1991).
K. Sugiyama, S. Pac, Y. Takamashi, S. Motojima, J. Electrochem. Soc, 122, 1545 (1975).
F. Maury, D. Oquab, J. C. Manse, R. Morancho, J. F. Nowak, J. P. Gauthier, Surf. Coating Technol., 41, 51 (1990).
N. M. Rutherford, C. E. Larson, R. Jackson, Mat. Res. Soc. Proc, 131, 439 (1989).
C. Jimenez, S. Gilles, C. Bernard, R. Madar to be published in Surf. Coatings Technol. (1995). 148
C. Bernard. R. Madar in Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics (II) Ed. by T.M. Besmann, P. M. Gallois and J. W. Waren (Mat. Res. Soc. Proc. 250, Pittsburg, PA, 1992) pp. 3–15.
B. Drouin-Ladouce, PhD Thesis, Université d’Orléans, 1990.
F. Weiss, A. Pisch, C. Bernard, U. Schmatz in the tenth European Conference on Chemical Vapour Depositon Ed. by G. Battiston, (J. Phys. coll. sup. C5, 1995), p. 151–158.
C. Bernard, F. Weiss, A. Pisch, R. Madar, in Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Electronic Ceramics, Ed. by S. B. Desu, D. B. Beach, B. W. Wessels and S. Gokoglu (Mat. Res. Soc. Proc. 335, Pittsburg, PA, 1994) pp. 139–157.
K. Frohlich, F. Weiss, D. Boursier, J. P. Sénateur, Physica C, 659, 235 (1993).
A. Pisch, PhD Thesis, Institut National Polytechnique de Grenoble, 1994.