The relationship between the macroscopic properties of PECVD silicon nitride and oxynitride layers and the characteristics of their networks

Applied Physics A Solids and Surfaces - Tập 74 Số 2 - Trang 181-186 - 2002
Marta Klanjšek Gunde1, Marijan Maček2
1National Institute of Chemistry, SI-1000 Ljubljana, Hajdrihova 19, Slovenia, , SI
2Faculty of Electrical Engineering, SI-1000 Ljubljana, Tržaška 25, Slovenia, , SI

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Applied Physics A Solids and Surfaces

Tập 74 Số 2

181-186

Thông tin tác giả