Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Đặc điểm của các phim mỏng Al-doped kẽm oxit dẫn điện trong suốt được lắng đọng trên các nền polyme
Tóm tắt
Các phim mỏng kẽm oxit dẫn điện trong suốt được pha tạp nhôm (AZO) đã được lắng đọng trên các nền polyethylene terephthalate giá rẻ, bằng phương pháp phun magnetron tần số vô tuyến (rf), sử dụng mục tiêu gốm AZO (nội dung Al2O3 khoảng 2 wt%). Bài báo này trình bày một phương pháp hiệu quả để tối ưu hóa các tham số cho quá trình lắng đọng các phim AZO với nhiều đặc tính hiệu suất, sử dụng phương pháp Taguchi kết hợp với phân tích quan hệ xám. Áp dụng khái niệm thiết kế chất lượng Taguchi, một mảng chéo L9 đã được chọn cho các thí nghiệm. Các tác động của các tham số quá trình khác nhau (công suất rf, khoảng cách từ nền đến mục tiêu, nhiệt độ nền và thời gian lắng đọng) lên các đặc tính điện, cấu trúc, hình thái và quang của phim AZO đã được điều tra. Trong các lần xác nhận, sử dụng phân tích quan hệ xám, điện trở suất của các phim AZO đã được tìm thấy giảm từ 5.0 × 10−3 xuống 1.6 × 10−3 Ω-cm và độ truyền quang đã được tìm thấy tăng từ 74.39% lên 79.40%. Các kết quả cho thấy phương pháp Taguchi kết hợp với phân tích quan hệ xám là một cách tiết kiệm để đạt được nhiều đặc tính hiệu suất của các phim AZO với ít dữ liệu thí nghiệm nhất. Thêm vào đó, bằng cách áp dụng một lớp đệm Al với độ dày 10 nm, các kết quả cho thấy điện trở suất là 3.1 × 10−4 Ω-cm và độ truyền quang trung bình trong phần phổ nhìn thấy là khoảng 79.12%.
Từ khóa
#Al-doped zinc oxide #AZO #thin films #transparent conductive films #Taguchi method #grey relational analysisTài liệu tham khảo
citation_journal_title=Surf. Coat. Technol.; citation_author=K.T. Ramakrishna Reddy, T.B.S. Reddy, I. Forbes, R.W. Miles; citation_volume=151–152; citation_publication_date=2002; citation_pages=110; citation_id=CR1
citation_journal_title=J. Cryst. Growth; citation_author=BD Ahn, SH Oh, CH Lee, GH Kim, HJ Kim, SY Lee; citation_volume=309; citation_publication_date=2007; citation_pages=128; citation_doi=10.1016/j.jcrysgro.2007.09.014; citation_id=CR2
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=T Minami, S Ida, T Miyata, Y Minamino; citation_volume=445; citation_publication_date=2003; citation_pages=268; citation_doi=10.1016/S0040-6090(03)01159-3; citation_id=CR3
citation_journal_title=Mater. Chem. Phys.; citation_author=LW Lai, CT Lee; citation_volume=110; citation_publication_date=2008; citation_pages=393; citation_doi=10.1016/j.matchemphys.2008.02.029; citation_id=CR4
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=KY Cheong, N Muti, SR Ramanan; citation_volume=410; citation_publication_date=2002; citation_pages=142; citation_doi=10.1016/S0040-6090(02)00286-9; citation_id=CR5
citation_journal_title=J. Cryst. Growth; citation_author=H Ko, WP Tai, KC Kim, SH Kim, SJ Suh, YS Kim; citation_volume=277; citation_publication_date=2005; citation_pages=352; citation_doi=10.1016/j.jcrysgro.2005.01.061; citation_id=CR6
citation_journal_title=Appl. Surf. Sci.; citation_author=X Yu, J Ma, F Ji, Y Wang, X Zhang, C Cheng, H Ma; citation_volume=239; citation_publication_date=2005; citation_pages=222; citation_doi=10.1016/j.apsusc.2004.05.266; citation_id=CR7
citation_journal_title=Exp. Sys. Appl.; citation_author=E Kilickap; citation_volume=37; citation_publication_date=2010; citation_pages=6116; citation_doi=10.1016/j.eswa.2010.02.023; citation_id=CR8
citation_title=Taguchi Techniques for Quality Engineering; citation_publication_date=1988; citation_id=CR9; citation_author=PJ Ross; citation_publisher=McGraw-Hill
citation_journal_title=Comput. Ind. Eng.; citation_author=YM Chiang, HH Hsieh; citation_volume=56; citation_publication_date=2009; citation_pages=648; citation_doi=10.1016/j.cie.2007.12.020; citation_id=CR10
citation_journal_title=J. Mater. Process. Technol.; citation_author=KT Chiang, FP Chang; citation_volume=180; citation_publication_date=2006; citation_pages=96; citation_doi=10.1016/j.jmatprotec.2006.05.008; citation_id=CR11
citation_journal_title=Surf. Coat. Technol.; citation_author=YM Chung, CS Moon, MJ Jung, JG Han; citation_volume=200; citation_publication_date=2005; citation_pages=936; citation_doi=10.1016/j.surfcoat.2005.02.197; citation_id=CR12
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=A Miyake, T Yamada, H Makino, N Yamamoto, T Yamamoto; citation_volume=517; citation_publication_date=2008; citation_pages=1037; citation_doi=10.1016/j.tsf.2008.06.052; citation_id=CR13
citation_title=The Essential Method of Grey Systems; citation_publication_date=1992; citation_id=CR14; citation_author=JL Deng; citation_publisher=HUST Press
citation_journal_title=Appl. Surf. Sci.; citation_author=DH Zhang, TL Yang, J Ma; citation_volume=158; citation_publication_date=2000; citation_pages=43; citation_doi=10.1016/S0169-4332(99)00591-7; citation_id=CR15
citation_journal_title=Vacuum; citation_author=CH Tseng, WH Wang, HC Chang, CP Chou, CY Hsu; citation_volume=85; citation_publication_date=2010; citation_pages=263; citation_doi=10.1016/j.vacuum.2010.06.006; citation_id=CR16
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=V Assuncao, E Fortunato, A Marques, A Goncalves, I Ferreira, H Aguas, R Martins; citation_volume=442; citation_publication_date=2003; citation_pages=102; citation_doi=10.1016/S0040-6090(03)00955-6; citation_id=CR17
citation_journal_title=Microelectron. Reliab.; citation_author=SY Kuo, KC Liu, FI Lai, JF Yang, WC Chen, MY Hsieh, HI Lin, WT Lin; citation_volume=50; citation_publication_date=2010; citation_pages=730; citation_doi=10.1016/j.microrel.2010.01.042; citation_id=CR18
citation_journal_title=Appl. Surf. Sci.; citation_author=M Lv, X Xiu, Z Pang, Y Dai, S Han; citation_volume=252; citation_publication_date=2005; citation_pages=2006; citation_doi=10.1016/j.apsusc.2005.02.131; citation_id=CR19
citation_journal_title=J. Lumin.; citation_author=Y Zhang, H Zheng, J Su, B Lin, Z Fu; citation_volume=124; citation_publication_date=2007; citation_pages=252; citation_doi=10.1016/j.jlumin.2006.03.004; citation_id=CR20
citation_journal_title=Appl. Surf. Sci.; citation_author=KH Bang, DK Hwang, JM Myoung; citation_volume=207; citation_publication_date=2003; citation_pages=359; citation_doi=10.1016/S0169-4332(03)00005-9; citation_id=CR21
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=E Fortunato, A Goncalves, V Assuncao, A Marques, H Aguas, L Pereira, I Ferreira, R Martins; citation_volume=442; citation_publication_date=2003; citation_pages=121; citation_doi=10.1016/S0040-6090(03)00958-1; citation_id=CR22
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=DR Sahu, JL Huang; citation_volume=516; citation_publication_date=2007; citation_pages=208; citation_doi=10.1016/j.tsf.2007.06.124; citation_id=CR23
citation_journal_title=Thin Solid Films; citation_author=D.R. Sahu, J.L. Huang; citation_volume=515; citation_publication_date=2006; citation_pages=876; citation_id=CR24
citation_journal_title=Appl. Surf. Sci.; citation_author=YS Kim, JH Park, DH Choi, HS Jang, JH Lee, HJ Park, JI Choi, DH Ju, JY Lee, D Kim; citation_volume=254; citation_publication_date=2007; citation_pages=1524; citation_doi=10.1016/j.apsusc.2007.07.080; citation_id=CR25
citation_journal_title=Mater. Lett.; citation_author=L Zhai, G Ling, J Li, Y Wang; citation_volume=60; citation_publication_date=2006; citation_pages=3031; citation_doi=10.1016/j.matlet.2006.02.038; citation_id=CR26
citation_journal_title=Vacuum; citation_author=A Uemura, K Kezuka, S Iwamori, I Nishiyama; citation_volume=84; citation_publication_date=2010; citation_pages=607; citation_doi=10.1016/j.vacuum.2009.06.036; citation_id=CR27