Các Phản Ứng Bề Mặt Dẫn Đến Ô Nhiễm Của Các Phim Kim Loại Được Phân Tích Quang Hóa Từ Các Hexacarbonyls

Springer Science and Business Media LLC - Tập 131 - Trang 469-474 - 2011
K. A. Singmaster1, R. J. Wilson1, F. A. Houle1
1IBM Research Division, Almaden Research Center, San Jose, USA

Tóm tắt

Một nghiên cứu hệ thống về nguồn gốc của các chất ô nhiễm trong các phim kim loại được phân tích quang hóa từ các hexacarbonyl nhóm VI được mô tả. Khí nền có mặt trong buồng trong quá trình lắng đọng, tiếp xúc với không khí và việc loại bỏ không hoàn toàn các nhóm CO khỏi bề mặt của phim đang phát triển đều ảnh hưởng đến sự kết hợp C và O. Dữ liệu được so sánh với kết quả của các thí nghiệm gần đây nghiên cứu các sản phẩm photobề mặt của các carbonyl kim loại.

Từ khóa

#Khoa học Vật liệu #tổng quát #Đặc trưng và Đánh giá Vật liệu #Công nghệ Nano #Hóa học Vô cơ #Kỹ thuật Vật liệu #Vật lý Ứng dụng và Kỹ thuật

Tài liệu tham khảo

R. Solanki, P. K. Boyer and G. J. Collins, Appl. Phys. Lett. 41, 1048 (1982). D. K. Flynn, J. I. Steinfeld and D. S. Sethi, J. Appl. Phys. 59, 3914 (1986). N. S. Gluck, G. J. Wolga, C. E. Bartosch, W. Ho and Z. Ying, J. Appl. Phys. 61, 998 (1987). R. L. Jackson and G. W. Tyndall, J. Appl. Phys. 64, 2092 (1988). H. H. Gilgen, T. Cacouris, P. S. Shaw, R. R. Krchnavck and R. M. Osgood, Appl. Phys. B42, 55 (1987). A part of this study has been reported by K. A. Singmaster, F. A. Iloule and R. J. Wilson, Appl. Phys. Lett. 53, 1048 (1988). T. T. Lin and D. Lichtman, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1689 (1978). R. M. Osgood, Jr. and D. J. Ehrlich, Opt. Lett. 7, 385 (1982). L. E. Davis, N. C. MacDonald, P. W. Palmberg, G. E. Riach and R. E. Weber, “Handbook of Auger Electron Spectroscopy”, Perkin Elmer Corporation, Eden Prairie MN (1978). B. Lesiak, P. Mrozek, A. Jablonski and A. Jozwik, Surf. Interface Anal. 8, 121 (1986). J. R. Creighton, J. Appl. Phys. 59, 410 (1986); N. S. Gluck, Z. Ying, C. E. Bartosch and W. Ho, J. Chem. Phys. 86, 4957 (1987); C. C. Cho and S. L. Bernasek, J. Vac. Sci. Technol. A5, 1088 (1987); T. A. Germer and W. Ho, J. Chem. Phys. 89, 562 (1988). E. I. Ko and R. J. Madix, Surf. Sci. 109, 221 (1981). N. D. Shinn and T. E. Madey, J. Vac. Sci. Technol. A3, 1673 (1985).