Tính Siêu Chất Lỏng của 4He Được Hấp Phụ Trong Silica Xốp

Cechoslovackij fiziceskij zurnal - Tập 46 - Trang 137-138 - 1996
S. Miyamoto1, Y. Takano1
1Department of Physics and Center for Ultralow Temperature Research, University of Florida, Gainesville, USA.

Tóm tắt

Chúng tôi đã đo mật độ siêu chất lỏng của 4He hấp phụ trong silica có đường kính lỗ 25 Å cho nhiều mức phủ phim khác nhau bằng kỹ thuật dao động xoắn. Thí nghiệm cho thấy mật độ siêu chất lỏng gần mức phủ đầy lỗ hoàn toàn hoàn toàn được xác định bởi sự kích thích phonon, với giai đoạn chuyển tiếp Kosterlitz-Thouless không đóng vai trò gì.

Từ khóa

#siêu chất lỏng #4He #silica xốp #mật độ siêu chất lỏng #kích thích phonon #chuyển tiếp Kosterlitz-Thouless

Tài liệu tham khảo

V. Kotsubo and G. A. Williams, Phys. Rev. B33, 6106 (1986). G. A. Williams, Phys. Rev. Lett.64, 978 (1990). M. H. W. Chan, K. I. Blum, S. Q. Murphy, G. K. S. Wong, and J. D. Reppy, Phys. Rev. Lett.64, 979 (1990). J. M. Kosterlitz and D. J. Thouless, J. Phys. C6, 1131 (1973). D. J. Bishop and J. D. Reppy, Phys. Rev. Lett.40, 1727 (1978). C. W. Kiewiet, H. E. Hall, and J. D. Reppy, Phys. Rev. Lett.35, 1286 (1975). K. I. Blum, S. Murphy, M. H. W. Chan, D. D. Awschalom, and J. D. Reppy, Jpn. J. Appl. Phys.26, Suppl. 26–3, 275 (1987). K. Shirahama, N. Wada, Y. Takano, T. Ito, and T. Watanabe, Jpn. J. Appl. Phys.26, Suppl. 26–3, 293 (1987). K. Shirahama, M. Kubota, S. Ogawa, N. Wada, and T. Watanabe, Phys. Rev. Lett.64, 1541 (1990). T. Minoguchi and Y. Nagaoka, Prog. Theor. Phys.80, 397 (1988). H. Cho and G. A. Williams, Phys. Rev. Lett.75, 1562 (1995). Gel-Tek, 2 Innovation Dr., Alachua, FL 32615-9585, USA. J. E. Berthold, D. J. Bishop, and J. D. Reppy, Phys. Rev. Lett.39, 348 (1977). D. J. Bishop, J. E. Berthold, J. M. Parpia, and J. D. Reppy, Phys. Rev. B24, 5047 (1980).