Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Nghiên cứu phát xạ X-ray từ một đi-ốt nhỏ gọn hoạt động bằng cách xả tụ điện có độ tự cảm cao
Tóm tắt
Một đi-ốt nhỏ gọn bao gồm một anode dạng tấm phẳng và một cathode có cạnh sắc (một mảnh dao cạo) được cung cấp năng lượng bởi tụ điện 0.5 μF được sạc đến 30 kV đã được nghiên cứu nhằm tối ưu hóa việc phát xạ tia X so với khoảng cách giữa các điện cực và chiều rộng của cathode, điều này chịu trách nhiệm cho việc phát xạ electron do tác động của điện trường. Đây là một hệ thống có độ tự cảm cao, độ tự cảm phụ được tìm thấy là 353 ± 5 nH, và dòng điện xả đỉnh được ghi nhận chỉ là 35 ± 02 kA. Tia X được phát xạ tối đa khi sử dụng cathode rộng 2 mm với khoảng cách giữa các điện cực là 3 mm. Năng suất tia X trong hình học 4π được xác định là 34 ± 3 mJ với hiệu suất chuyển đổi năng lượng là 0.015 ± 0.001%. Sự phát xạ tia X xảy ra khoảng 200 ns sau khi áp dụng điện áp cao, đồng bộ với sự sụt giảm trong dạng sóng dòng điện. Hiệu suất thấp của hệ thống trong việc tạo ra tia X được quy cho độ tự cảm phụ cao.
Từ khóa
#X-ray emission #compact diode #high-inductance capacitor #parasitic inductance #electron emissionTài liệu tham khảo
E. Sato, H. Isobe, and F. Hoahino, Rev. Sci. Instrum. 57, 1399 (1986).
E. Sato, et al., Rev. Sci. Instrum. 61, 2343 (1990).
E. Sato, et al., Rev. Sci. Instrum. 62, 2115 (1991).
J. I. Levatter and Z. Li, Rev. Sci. Instrum. 52, 1651 (1981).
C. Cachoncinlle, et al., J. Phys. D. 23, 984 (1990).
I. V. Tomov, P. Chen, and P. M. Rentzepis, Rev. Sci. Instrum. 66, 5214 (1995).
I. L. Spain and D. R. Black, Rev. Sci. Instrum. 56, 1461 (1985).
H. Milchberg, R. R. Freeman, and S. C. Davey, Advances in Laser Science II (M. Lapp, W. C. Stwalley, and G. A. Kenny-Wallace eds.), AIP Conf. Proc. 160, 179 (1987).
J. D. Ivers and J. A. Nation, Rev. Sci. Instrum. 54, 1509 (1983).
A. Ikhlef and M. Showronek, IEEE Trans. Plasma Sci. 54, 669 (1993).
A. Shikoda, et al., Rev. Sci. Instrum. 65, 850 (1994).
J. M. Pouvesle, et al., Rev. Sci. Instrum. 64, 2320 (1993).
C. B. Collins, F. Davanloo, and T. S. Bowen, Rev. Sci. Instrum. 57, 863 (1986).
E. Robert, et al., Ann. Phys. (Paris) 19, 167 (1994).
M. Zakaullah and J. Worley, J. App. Phys. 88, 1251 (2000).
M. Zakaullah, et al., Appl. Phys. Lett. 78, 877 (2001).
M. Shafiq, et al., Phys. Lett. A, 302, 23 (2002).
M. Shafiq, et al., Plasma Source Sci. Technol. 12, 199 (2003).
J. W. Robison, Handbook of Spectroscopy (Cleveland, OH, CRC 1974).
M. Zakaullah, et al., Plasma Source Sci. Technol. 9, 592 (2000).
M. Zakaullah, J. Fusion Energy 19, 143 (2000).