Resistless patterning of sub-micron structures by evaporation through nanostencils

Microelectronic Engineering - Tập 53 Số 1-4 - Trang 403-405 - 2000
Juergen Brügger1, J.W. Berenschot1, S. Kuiper1, W. Nijdam1, Benjamin Otter1, M. Elwenspoek1
1MESA Research Institute, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Dolan, 1977, Appl. Phys. Lett., Vol. 31, 1, 10.1063/1.89690

Kubatkin, 1998, Appl. Phys. Lett., Vol. 73, 14, 10.1063/1.122838

Petrashov, 1997, Microelectronic Engineering, 35, 357, 10.1016/S0167-9317(96)00192-X

Lüthi, 1999, Appl. Phys. Lett., Vol. 75, 1314, 10.1063/1.124679

Aizenberg, 1998, Nature, Vol. 394, 10.1038/29730

Fan, 1999, Science, Vol. 283, 10.1126/science.283.5401.512

van Rijn, 1998, Nanotechnology, 9, 343, 10.1088/0957-4484/9/4/007

Brugger, 1998, v1–2, 19

Thông tin
Thông tin xuất bản

Microelectronic Engineering

Tập 53 Số 1-4

403-405

Thông tin tác giả