Production high-energy ion implanters with milliampere beam capabilities

Elsevier BV - Tập 37 - Trang 591-595 - 1989
P. Boisseau1, A. Dart2, A.S. Denholm1, H.F. Glavish2, B. Libby1, G. Simcox2
1Eaton Corporation, Ion Beam Systems Division, Beverly, MA 01915, USA
2Ion Microfabrication Systems Inc, Danvers, MA 01923, USA

Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Elsevier BV

Tập 37

591-595

Thông tin tác giả