Plasma Deposition, Properties and Structure of Amorphous Hydrogenated Carbon Films

Materials Science Forum - Tập 52-53 - Trang 41-70
P. Koidl1, C. Wild1, B. Dischler, Jürgen Wagner, M. Ramsteiner
1Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo