Photothermal Investigation of Ti-Cu-N and Ti-Ni-N PVD Films

CIRP Annals - Tập 55 - Trang 585-588 - 2006
H. Prekel1, M.J. Klopfstein2, M. Giesselbach3, S. Patzelt1, R. Ghisleni2, D.A. Lucca2, G. Goch1, H.-R. Stock3
1Department of Metrology and Control, Bremen University, Germany
2School of Mechanical and Aerospace Engineering, Oklahoma State University, Stillwater, OK, USA
3Stiftung Institut für Werkstofftechnik, Bremen, Germany

Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

CIRP Annals

Tập 55

585-588

Thông tin tác giả