V. Kouznetsov, K. Macak, J. M. Schneider, et al., Surf. Coat. Technol. 122, 290 (1999).
C. Christou and Z. H. Barber, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2897 (2000).
J. Alami, J. T. Gudmundsson, J. Bohlmark, et al., J. Plasma Sources Sci. Technol. 14, 525 (2005).
J. Bohlmark, M. Lattemann, J. T. Gudmundsson, et al., Thin Solid Films 515, 1522 (2006).
A. P. Ehiasarian, R. New, W.-D. Münz, et al., Vacuum 65, 147 (2002).
J. Alami, K. Sarakinos, G. Mark, and M. Wuttig, Appl. Phys. Lett. 89, 154104 (2006).
S. M. Rossnagel and H. R. Kaufman, J. Vac. Sci. Technol., A 223, 223 (1988).
A. A. Solov’ev, N. S. Sochugov, K. V. Oskomov, and S. V. Rabotkin, Fiz. Plazmy 35, 443 (2009) [Plasma Phys. Rep. 35, 399 (2009)].
E. M. Oks, A. A. Chagin, and P. M. Shchanin, Zh. Tekh. Fiz. 59(10), 188 (1989) [Sov. Phys. Tech. Phys. 34, 1210 (1989)].