Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Về các Tính Chất Tập Trung và Truyền Tải của Chùm Electron trong Các Nguồn Vi Sóng Công Suất Cao Đầy Plasma
Tóm tắt
Dựa trên nguyên lý chuyển động của electron, bài báo này trình bày quỹ đạo vi trục chùm tia và phương trình quỹ đạo không gian trong không gian trôi đầy plasma. Không gian được chia thành hai khu vực (α và β, β chứa β1 và β2), hành vi của electron trong các khu vực này được nghiên cứu. Các phương trình được giải quyết theo lý thuyết hoặc số học, các tính chất tập trung và truyền tải được nghiên cứu và một số tham số ảnh hưởng đến các tính chất này được thảo luận chi tiết. Hiệu ứng tương đối cũng được xem xét. Nghiên cứu cho thấy rằng với plasma, chùm tia có thể được tập trung hiệu quả và truyền tải với chất lượng cao bằng cách chọn tối ưu tỷ lệ lấp đầy plasma và điện áp. Điện tử vi sóng plasma đã bắt đầu từ năm 1949, tuy nhiên, nó đã phát triển nhanh chóng trong những năm gần đây. Trong quá trình nghiên cứu vi sóng công suất cao, plasma ngày càng được giới thiệu vào nguồn vi sóng. Nhờ hiệu ứng trung hòa của plasma, chùm tia có thể truyền tải với chất lượng cao, ngay cả dưới từ trường yếu hoặc không có từ trường, nó có thể lan truyền qua ống trôi hoặc cấu trúc sóng chậm nhờ lực tự tập trung từ trường của nó. Bằng cách tận dụng triệt để điều này, các thiết bị vi sóng không có hệ thống từ trường có thể được chế tạo, điều này dẫn đến việc giảm kích thước và khối lượng của thiết bị. Một số thí nghiệm cho thấy rằng loại thiết bị này có thể nâng cao rõ rệt công suất và hiệu suất đầu ra. Tuy nhiên, do sự hiện diện của plasma, hành vi của chùm tia thay đổi lớn so với điều kiện chân không. Do đó, việc nghiên cứu các tính chất của chùm tia trong không gian trôi hoặc cấu trúc sóng chậm đầy plasma là rất quan trọng cho sự phát triển của thiết bị.
Từ khóa
#plasma #vi sóng #chùm electron #tính chất tập trung #truyền tải #nguồn công suất caoTài liệu tham khảo
R. W. Schumacher, D.M. Goegel, J. Santoru, R.M. Watkins, R.J. Harvey, and F.A. Dolezal, IEEE Inter. Conf. of Plasma Sci., June 3, 1991
D.M. Goegel, J.M. Butler, R.W. Schumacher, J. Santoru, and R.L. Eisenhart, High Power Microwave Source Based on an Unmagnetized Backward-Wave Oscillator, IEEE Trans. on Plasma Science, 1994, 22(5): 547–553
G.A. Nagy and M. Szilagyi, INTRODUCTION TO THE THEORY OF SPACE-CHARGE OPTICS, Macmillan Press Ltd, 1974
J.D. Miller and R.M. Gilgenbach, Transport of Long-Pulse, High-Current Electron Beam in Performed Monatomic Plasma Channel in the Ion Focus Regime, IEEE Trans. on Plasma Science, 1990, 18(3), P658
