Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Vi khuẩn oligotrophic trong hệ thống nước siêu tinh khiết: Lựa chọn môi trường và đánh giá các thành phần quy trình
Tóm tắt
Hiện nay, môi trường agar peptone (TSA) được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn để xác định nồng độ vi khuẩn oligotrophic có khả năng sống trong các hệ thống nước siêu tinh khiết. Nước khử ion từ một nhà máy nước siêu tinh khiết đã được đánh giá về sự phát triển của vi khuẩn tại các vị trí cụ thể, sử dụng môi trường không chọn lọc (R2A) được thiết kế để phát hiện vi khuẩn kỵ khí bị tổn thương cũng như vi khuẩn oligotrophic. Kết quả được so sánh với những gì thu được khi sử dụng môi trường Tryptic Soy Agar. Số lượng vi khuẩn quan sát được lớn hơn một cách có ý nghĩa thống kê khi sử dụng R2A làm môi trường phát triển. Tổng số vi khuẩn sống khả năng đã được so sánh cả trước và sau mỗi bước điều trị của vòng tuần hoàn để xác định hiệu quả của chúng trong việc loại bỏ vi khuẩn. Sự giảm số lượng vi khuẩn cho đơn vị thẩm thấu ngược, giường trao đổi ion và bộ tiệt trùng ultraviolet lần lượt là 97.4%, 31.3% và 72.8% khi sử dụng môi trường TSA, và 98.4%, 78.4% và 35.8% khi sử dụng môi trường R2A. Số lượng vi khuẩn còn sống đã tăng 60.7% dựa trên môi trường TSA và 15.7% dựa trên môi trường R2A sau khi nước đi qua bộ lọc nylon có kích thước lỗ 0.2-μm, có thể là do sự phát triển của vi khuẩn trên bộ lọc. Kết quả của chúng tôi gợi ý rằng môi trường R2A có thể phản ánh tốt hơn chất lượng nước vi sinh trong các hệ thống nước siêu tinh khiết và do đó cung cấp cái nhìn tốt hơn về hiệu quả của các quy trình điều trị khác nhau trong việc kiểm soát vi khuẩn.
Từ khóa
#vi khuẩn oligotrophic #nước siêu tinh khiết #môi trường R2A #môi trường TSA #quy trình điều trị nướcTài liệu tham khảo
Atlas R. and R. Bartha. 1987. Effects of abiotic factors on microorganisms. In: Environmental Microbiology: Fundamentals and Applications, 2nd edn. (Mautner, S. ed.), pp. 254–255, The Benjamin/Cummings Publishing Company, Menlo Park, CA.
Donovan, R., A. Clayton, D. Riley, R. Carbonell and V. Menon. 1990. Investigating particle deposition mechanisms of semiconductor devices exposed to aqueous baths. Microcontamination. 8: 5–29.
Green, D. 1984. Conversion factors and miscellaneous tables. In: Perry's Chemical Engineering Handbook, 6th edn., (Green, D. and J. Maloney, eds.), p. 24. McGraw-Hill Book Company, New York, NY.
Hoerl, A., M. Nashed, J. McKetta and I. Silverberg. 1984. Mathematics. In: Parry's Chemical Engineering Handbook, 6th edn., (Green, D. and J. Maloney, eds.), pp. 85–87. McGraw-Hill Book Company, New York, NY.
Maly, W. 1987. Processing Steps. In: Atlas of IC Technologies: An Introduction to VLSI Processes, (Bartholomew, C. and M. Westermann, eds.), pp. 8–13. The Benjamin/Cummings Publishing Company, Menlo Park, CA.
Meyers, P. 1987. Destruction of TOC using ultraviolet light. Forty-Eight Annual Meeting of the International Water Conference Transcript. 1–22. International Water Conference, Pittsburgh, PA.
Mittelman, M. and G. Geesey. 1988. Biological fouling. In: Biological Fouling of Industrial Water Systems: A Problem Solving Approach (Mittelman, M. and G. Geesey, eds.), pp. 1–16, 194–233. Water Micro. Assoc., San Diego, CA.
Paleg, M. 1976. The chemistry of ozone in the treatment of water. Water Res. 10: 361–365.
Peyton, G., F. Huang, B. Burleson and W. Glaze. 1982. Destruction of pollutants in water with ozone in combination with ultraviolet radiation. 1. General principles and oxidation or tetrachloroethylene. Environ. Sci. Tech. 16: 448–453.
Reasoner, D. and E. Geldreich. 1985. A new medium for the enumeration and subculture of bacteria from potable water. Appl. Environ. Microbiol. 50: 1–7.
Wilkins, F. and P. McConnelee. 1989. Continuous deionization in the preparation of microelectronics grade water. Sld. St. Technol. 32: 89–92.
Yabe, K., Motomura, Y., Ishikawa, H., Mizuniwa, T. and T. Ohmi. 1989. Responding to the future quality of ultra-pure water. Microcontamination. 7: 37–45.
Yarnell, P., Kato, M. and B. Hoffman. 1989. The effects of ozone on ion exchange mixed beds in ultra-pure water. 8th Annual Semiconduct. Pure Water Conf. Trans. pp. 195–221. Semiconductor Pure Water, Palo Alto, CA.