Động học Nanosecond của Phân hủy Nhiệt do Laser Excimer Gây Ra trong Các Phim Polymer Mỏng

Springer Science and Business Media LLC - Tập 74 - 1986
X. D. Wu1, D. Dijkkamp2, A. S. Gozdz2, T. Venkatesan2
1Physics Dept., Rutgers Univ., Piscataway, USA
2Bell Communications Research. Inc., Red Bank, USA

Tóm tắt

Tóm tắtPhương pháp mới để nghiên cứu tác động của việc gia nhiệt nhanh đến các polymer được trình bày. Các phép đo độ phản xạ thời gian phân giải nanosecond của sự phân hủy nhiệt của poly(3-butenyltrimethylsilane sulfone) (PBTMSS) và phim polymethylmetacrylate (PMMA) được quay trên các bản wafer silicon và chiếu xạ bởi laser excimer xung tại bước sóng 248 nm được báo cáo. Kết quả cho thấy tồn tại một nhiệt độ tới hạn cho sự phân hủy hiệu quả. Thang thời gian cho quá trình phân hủy nhiệt tương đương với các thang thời gian được xác định cho các quá trình photo-ablation. Các kết quả cho thấy rằng các hiệu ứng nhiệt là rất quan trọng trong tương tác giữa polymer và laser UV xung.

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

10.1002/lsm.1900040212

10.1007/978-1-4757-1625-2

10.1007/BF00616456

10.1063/1.336012

10.1063/1.90670

10.1063/1.336728

10.1063/1.337698

10.1063/1.94947

10.1063/1.96526

10.1007/978-3-642-82381-7_46

10.1063/1.331497

10.1063/1.95898

10.1063/1.96798

10.1063/1.334503

10.1117/12.963618

10.1063/1.96940

Heavens, 1965, Optical Properties of Thin Solid Films

Wood, 1984, Pulsed Laser Processing of Semiconductors

Thông tin
Thông tin xuất bản

Springer Science and Business Media LLC

Tập 74

Thông tin tác giả