Modeling Rapid Thermal Diffusion of Arsenic and Boron in Silicon

Journal of the Electrochemical Society - Tập 131 Số 10 - Trang 2387-2394 - 1984
Richard B. Fair1,2, J. J. Wortman1,2, J. Liu1,2
1Department of Electrical Engineering, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27650
2Microelectronics Center of North Carolina, Research Triangle Park, North Carolina 27709

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Journal of the Electrochemical Society

Tập 131 Số 10

2387-2394

Thông tin tác giả