Tính chất giao diện của ống nano TiO2 tự tổ chức được nghiên cứu bằng phổ kháng điện

Springer Science and Business Media LLC - Tập 11 - Trang 1077-1084 - 2006
A. G. Muñoz1,2, Q. Chen1, P. Schmuki1
1Department of Materials Science, University of Erlangen-Nürnberg, Erlangen, Germany
2Institut für Angewandte Physik, Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf, Düsseldorf, Germany

Tóm tắt

Tính chất bán dẫn của giao diện TiO2/điện giải trong các cấu trúc oxide xốp cao được phân tích thông qua phương pháp phổ kháng điện gần với thế băng phẳng. Các nghiên cứu về kháng điện và điện dung được thực hiện trên các mẫu đã được anod hóa và xử lý nhiệt (anatase) cho thấy sự hiện diện của một cấu trúc duplex được hình thành bởi (1) lớp oxide ở đáy lỗ rỗng và (2) các bức tường của lỗ rỗng với các mật độ nhà tài trợ và nồng độ trạng thái bề mặt khác nhau.

Từ khóa

#TiO2 #ống nano #phổ kháng điện #cấu trúc xốp #điện dung #mật độ nhà tài trợ

Tài liệu tham khảo

Grätzel M (2003) J Photochem Photobiol C 4:145 Dyer CK, Leach JSL (1978) J Electrochem Soc 125:1032 Schultze JW, Lohrengel MM, Ross D (1983) Electrochim Acta 28:973 Schmuki P (2002) J Solid State Electrochem 6:145 Akbar SA, Younkman LK (1997) J Electrochem Soc 144:1750 Savage NO, Akbar SA, Dutta PK (2001) Sens Actuators B 72:239 Birkefeld LD, Azad AM, Akbar SA (1992) J Am Ceram Soc 75:2964 Sakthivel S, Kisch H (2003) ChemPhysChem 4:487 Sasahi R, Morikawa T, Ohwaki T, Aoki A, Taga Y (2001) Science 293:269 O’Regan B, Grätzel M (1991) Nature 353:737 Grätzel M (2001) Nature 414:338 Ghicov A, Tsuchiya H, Macak JM, Schmuki P (2005) Electrochem Commun 7:505 Tsuchiya H, Macak JM, Taveira L, Balaur E, Ghicov A, Sirotna K, Schmuki P (2005) Electrochem Commun 7:576 Macak JM, Tsuchiya H, Schmuki P (2005) Angew Chem Int Ed 44:2100 Macak JM, Sirotna K, Schmuki P (2005) Electrochim Acta 50:3679 Law M, Greene L, Johnson JC, Saykally R, Yang P (2005) Nat Matters 4:455 Ghicov A, Tsuchiya H, Macak JM, Schmuki P (2005) Electrochem Commun 7:505 Boschloo GK, Goossens A, Schoonman J (1997) J Electrochem Soc 144:1311 Eppler AM, Ballard IM, Nelson J (2002) Phys E 14:197 Lausmaa J, Kasemo B, Mattsson H, Odelius H (1990) Appl Surf Sci 45:189 Marino CEB, Nascente PAP, Biaggio SR, Rocha-Fihlo RC, Bocchi N (2004) Thin Solid Films 468:109 Thompson GE (1997) Thin Solid Films 297:192 Sato N (1998) Electrochemistry at metal and semiconductor electrodes. Elsevier Di Quarto F, La Mantia F, Santamaría M (2005) Electrochim Acta 50:5090 Oliva FY, Avalle LB, Santos E, Cámara OR (2002) J Photochem Photobiol A 146:175 Dolata M, Kedzierzawski P, Augustynski J (1996) Electrochem Acta 41:1287 Simons W, Pauwels L, Hubin A (2002) Electrochim Acta 47:2169 Van de Krol R, Groossens A, Schoonman J (1997) J Electrochem Soc 144:1723 Lee E-J, Pyun S-I (1992) J Appl Electrochem 22:156 Simons W, Hubin A, Vereecken J (1999) Electrochim Acta 44:4373 Dean MH, Stimming U (1989) Corros Sci 29:199 Boschloo GK, Goossens A (1996) J Phys Chem 100:19489