Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Nhận thức về Tính Chất Cơ Học của Phim CH3SiO3/2
Tóm tắt
Mô đun Young và hệ số quang ứng suất của phim gel tự duy trì của CH3SiO3/2 đã được đo lường. Mô đun Young dao động từ 1.1 đến 1.5 GPa, tùy thuộc vào trạng thái cấu trúc của phim. Nó tăng lên khi mức độ polyme hóa tăng do các quá trình xử lý nhiệt, và cũng tăng lên khi tiếp xúc với điều kiện môi trường sau đó. Hệ số quang ứng suất là 6.3 × 10−12 Pa−1 cho một mẫu được xử lý ở 120°C. Độ linh hoạt của phim có vẻ phụ thuộc chủ yếu vào cấu trúc liên phân tử của Si–CH3...CH3–Si cũng như liên kết hydro do silanol và nước hấp phụ.
Từ khóa
#Mô đun Young #hệ số quang ứng suất #CH3SiO3/2 #phim gel #cơ học vật liệu.Tài liệu tham khảo
A. Heller, M.V. Pishko, and E. Heller, U.S. Pat. No. 5616532, 1997.
M. Chikuni, T. Watanabe, M. Hayakawa, T. Kimura, A. Yamamoto, and H. Fujiki, U.S. Pat. No. 5786414, 1998.
Z. Zhang et al., U.S. Pat. Appl. No. 09/222299.
Matsuda, Y. Matsuno, M. Tatsumisago, and T. Minami, J. Am. Ceram. Soc. 81, 2849 (1998).
Z. Zhang, Y. Tanigami, R. Terai, and H. Wakabayashi, U.S. Pat. No. 5858280, 1999.
Z. Zhang, submitted for publication.
Z. Zhang, Langmuir 13, 273 (1997).
Z. Zhang, Y. Tanigami, H. Wakabayashi, and A. Konishi, in Proceedings of 18th International Congress on Glass (Am. Ceram. Soc., 1998).
C. Chiang, G. Neubauer, A.S. Mack, K. Yoshioka, G. Cuan, P.A. Flinn, and D.B. Fraser, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 265, 219 (1992).
N. Soga, J. Non-Cryst. Solids 52, 365 (1982).
Z. Zhang, H. Wkabayashi, and T. Arai, J. Sol-Gel Sci. Technol. 12, 153 (1998).
H. Ide (Ed.), Practical Encyclopedia of Plastics (Sangyo Chosakai, Tokyo, 1996), p. 29 (in Japanese).
H.G. Tomkins and P.W. Deal, J. Vac. Sci. Technol. B11, 727 (1993).
G. Carlotti and G. Socino, Appl. Phys. Lett. 66, 2682 (1995).
H. Nakao, in Handbook of Glass Engineering, edited by M. Yamane, I. Yasui, M. Wada, Y. Kokubun, R. Terai, K. Kondo, and S. Ogawa (Asakura Syoten, Tokyo, 1999), p. 380.
T. Watanabe, Y. Inoue, A. Kaneko, N. Ooba, and T. Kurihara, Electron. Lett. 33, 1547 (1997).