Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Ảnh hưởng của các điều kiện cháy phóng điện đến sự phân phối các thông số của plasma được tạo ra trong một phóng điện phát sáng không tự duy trì bên trong một catốt rỗng
Tóm tắt
Các tham số của plasma trong một phóng điện phát sáng không tự duy trì được sinh ra bên trong một catốt rỗng kim loại dài 300 mm và có đường kính trong 25 mm đã được nghiên cứu. Một đặc điểm của hệ thống này là sự bơm thêm electron từ plasma phóng điện phụ được hình thành bởi nguồn plasma với catốt rỗng và catốt nung nóng kết hợp PINK. Các phụ thuộc và chế độ cháy của phóng điện phát sáng không tự duy trì được trình bày và mô tả tại áp suất trong khoảng (0,06 – 1,4) Pa và điện áp cháy từ (70 – 300) V. Các nghiên cứu về các tham số plasma sử dụng các đầu dò Langmuir kép đã cho thấy rằng hệ thống phóng điện này cung cấp sự sinh ra plasma nitơ bên trong catốt rỗng với độ không đồng nhất từ ±12 đến ±63%.
Từ khóa
#phóng điện phát sáng #catốt rỗng #plasma nitơ #tham số plasma #đầu dò LangmuirTài liệu tham khảo
B. I. Moskalev, Discharge with a Hollow Cathode [in Russian], Energiya, Moscow (1969).
Z. Pokorný, J. Kadlec, V. Hrubý, et al., Adv. Military Technol., 6, 69–75 (2011).
Y. V. Borisyuk, D. V. Mozgrin, N. M. Oreshnikova, et al., J. Surf. Invest., 12, No. 3, 603−606 (2018).
I.Braceras, I. Ibañez, S. Dominguez-Meister, et al., Surf. Coat. Technol., 355, 116−122 (2018).
S. C. Kwon, M. J. Park, W. S. Baek, and G. H. Lee, J. Mater. Eng. Performance, 1, No. 3, 353−358 (1992).
I. M. Goncharenko, E. M. Oks, and A. A. Chagin, Method of vacuum processing of the internal surface of pipes and device for its implementation, RF Patent No. 2039845 (Published October 11, 2000).
D. P. Borisov, N. N. Koval, and P. M. Shchanin, Russ. Phys. J., 37, No. 3, 295–299 (1994).
I. V. Lopatkin, Yu. N. Akhmadeev, and N. N. Koval, Rev. Sci. Instrum., 86, No. 10, 103301-1−8 (2015).
N. N. Koval, A. I. Ryabchikov, D. O. Sivin, et al., Surf. Coat. Technol., 340, 152–158 (2018).
A. V. Vizir’, E. M. Oks, P. M. Shchanin, and G. Yu. Yushkov, Zh. Tekh. Fiz., 67, No. 6, 27−31 (1997).
Y. N. Akhmadeev, V. V. Denisov, N. N. Koval, et al., Plasma Phys. Rep., 43, No. 1, 67−74 (2017).
D. Y. Ignatov, I. V. Lopatin, V. V. Denisov, et al., IEEE Trans. Plasma Sci., 48, No. 6, 2050–2059 (2020).
D. Ignatov, I. Lopatin, N. Koval, and V. Denisov, IEEE 7th Int. Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE), Tomsk, Russia (2020).