High Growth Rate of α-SiC by Sublimation Epitaxy

Materials Science Forum - Tập 264-268 - Trang 143-146
Mikael Syväjärvi1, Rositza Yakimova1, M. F. MacMillan2, M. Tuominen, A. Kakanakova–Georgieva1, C. Hemmingsson1, Ivan G. Ivanov1, Erik Janzén1
1Linköping University,
2Dow Corning Corporation

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo