Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Chế tạo đầu dò quang học gần với phần nhô kim loại nano
Tóm tắt
Chúng tôi đã phát triển một đầu dò mới với phần nhô kim loại ở quy mô nano kéo dài qua một khe hẹp nhỏ hơn bước sóng nhằm tăng cường khả năng kích thích và thu thập quang học trong trường gần. Đường kính đỉnh của phần nhô kim loại chế tạo được là 35 nm. Phân bố cường độ của trường quang học gần tại đỉnh của đầu dò đã được đo bằng cách quét một đầu dò khác qua đỉnh, và quan sát thấy trường quang học gần mạnh được tạo ra tại đỉnh của phần nhô kim loại. Độ rộng của phân bố cường độ là 150 nm bao gồm cả độ phân giải thiết bị. Các đầu dò với phần nhô kim loại hình cầu và hình ellip cũng được chế tạo, giúp kỳ vọng tăng cường trường quang học gần nhờ vào sự kích thích plasmon cục bộ.
Từ khóa
#Đầu dò quang học gần #nhô kim loại nano #kích thích plasmon cục bộ #cường độ trường quang học.Tài liệu tham khảo
W. Pohl and D. Courjon eds.: Near-field optics (Kluwer Acad. Publ., Dordrecht, 1993).
M. Ohtsu: IEEE J. Lightwave Technol. 13 (1995) 1200.
H.F. Hess, E. Betzig, T.D. Harris, L.N. Pfeiffer and K.W. West: Science 264 (1994) 1740.
T. Saiki, K. Nishi and M. Ohtsu: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 401.
J.B. Stark, U. Mohideen and R.E. Slucher: in Quantum Electronics and Laser Science Conference OSA Technical Digest Series (Optical society of America, Washington DC, 1995) Vol. 16, paper QTuJ1
T. Saiki, S. Mononobe and M. Ohtsu: Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 2612.
T. Yatsui, M. Kourogi and M. Ohtsu: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 1756.
F. Zenhausern, Y. Martin and H.K. Wickramasinghe: Science 269 (1995) 1083.
Y. Inoue and S. Kawata: Opt. Lett. 19 (1994) 159.
U.Ch. Fischer and M. Zapletal: Ultramicroscopy 42-44 (1992) 393.
M. Fee, Steven Chu and T.W. Hänsch: Opt. Commun. 69 (1989) 219.
F. Flack, N. Samarth, V. Nikitin, P.A. Crowell, J. Shi, J. Levy and D.D. Awschlom: Phys. Rev. B 54 (1996) R17 312.
T. Saiki, M. Ohtsu, K. Jang and W. Jhe: Opt. Lett. 21 (1996) 674.
T. Pangaribuan, S. Jiang and M. Ohtsu: Scanning 16 (1994) 362.
R. Toledo-Crow, P.C. Yang, Y. Chen and M. Vaez-Iravani: Appl. Phys. Lett. 60 (1992) 2957.
E. Betzig, P.L. Finn and J.S. Weiner: Appl. Phys. Lett. 60 (1992) 2484.
L. Novotny, R.X. Bian and X.S. Xie: Phys. Rev. Lett. 79 (1997) 645.
H. Raether: Surface Plasmons (Springer-Verlag, Berlin, 1988) Chap. 2, p. 37
W. Tan, Z. Shi and Raoul Kopelman: Anal. Chem. 64 (1992) 2985.