Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Chế tạo các Mảng Tế Bào Silicon trên Kính Borosilicate cho Hình ảnh Tế bào Sống Định lượng
Tóm tắt
Các mảng microwell phẳng đã được chế tạo trên nền silicon trên kính borosilicate (pyrex) nhằm tạo thuận lợi cho các thí nghiệm hình ảnh huỳnh quang tế bào sống cho các tế bào bị cách ly trong môi trường vi mô riêng của chúng, phục vụ cho việc ủ và định lượng sự tiết ra của từng tế bào. Hai phương pháp khắc silicon sâu đã được so sánh: khắc ion phản ứng sâu cryogenic (DRIE) và khắc sâu multiplex thời gian (Quá trình Bosch). Một tấm Si có độ dày 200um đã được gắn kết với một nền pyrex dày 500um. Phương pháp DRIE cryogenic cho phép chế tạo đáng tin cậy các microwell sâu từ 75–100um với kích thước lỗ mở 60x60um trên một nền 10x10mm, trong khi Quá trình Bosch cho phép khắc hoàn toàn qua lớp Si, tạo ra các microwell sâu 200um với đáy trong suốt và thành dốc, đồng thời giữ nguyên hình học kích thước lỗ mở 60x60um dự kiến.
Từ khóa
#microwell #silicon #borosilicate glass #imaging #cryogenic DRIE #Bosch Process #live cell.Tài liệu tham khảo
C. Czerkinsky, G. Andersson, H.P. Ekre, L.A. Nilsson, L. Klareskog, O. Ouchterlony, “Reverse ELISPOT assay for clonal analysis of cytokine production I. Enumeration of gamma-interferon-secreting cells”, J. of Immunological Methods 110, 1 (1988).
T. Jung, U. Schauer, C. Heusser, C. Neumann, C. Rieger, “Detection of intracellular cytokines by flow cytometry”, J. of Immunological Methods 159, 1–2 (1993).
R. Manz, M. Assenmacher, E. Pfluger, S. Miltenyi, A. Radbruch, “Analysis and sorting of live cells according to secreted molecules, relocated to a cell-surface affinity matrix” Proc Natl Acad Sci 92,6 (1995).
C. Czerkinsky, Z. Moldoveanu, J. Mestecky, L. A. Nilsson, O. Ouchterlony, “A novel two colour ELISPOT assay. I. Simultaneous detection of distinct types of antibody-secreting cells”, J. Immunol. Methods 115,1 (1988).
A. Rodriguez-Caballero, A. C. Garcia-Montero, C. Bueno, J. Almeida, R. Varro, R. Chen, A. Pandiella, A. Orfao, “A new simple whole blood flow cytometry-based method for simultaneous identification of activated cells and quantitative evaluation of cytokines released during activation”, Lab Invest 84, 10 (2004).
H. Jansen, M. de Boer, H. Wensink, B. Kloeck, M. Elwenspoek, “The black silicon method. VIII. A study of the performance of etching silicon using SF6/O2-based chemistry with cryogenical wafer cooling and a high density ICP source”, Microelectronics Journal 32, 9 (2001).
White, J.G., W.B. Amos, and M. Fordham, “An evaluation of confocal versus conventional imaging of biological structures by fluorescence light microscopy.” The Journal of Cell Biology 105,1 (1987).
M.J. de Boer, J. G. E. Gardeniers, H. V. Jansen, E. Smulders, M.-J. Glide, G. Roelofs, J. N. Sasserath, M. Elwenspoek, “Guidelines for etching silicon MEMS structures using fluorine high-density plasmas at cryogenic temperatures” Journal of Microelectromechanical Systems 11, 4 ( 2002).
F. Laerme,., et al. in Bosch deep silicon etching: improving uniformity and etch rate for advanced MEMS applications, (Twelfth IEEE International Conference on MEMS ‘99, Orlando, Florida, 1999).
M. J. Walker, “Comparison of Bosch and cryogenic processes for patterning high aspect ratio features in silicon”, Proc. SPIE 4407 (2001).