Công bố khoa học
Công cụ trích dẫn
Công bố khoa học
Trích dẫn
Tạp chí khoa học
Cơ quan đơn vị
Quản lý tài khoản
Danh mục đã lưu
Đăng xuất
Experimental study of copper leveling additives and their wafer and pattern-scale effect on copper planarization
Comptes Rendus Chimie
- Tập 16
- Trang 15-20
- 2013
James Kelly
1
,
Charan Surisetty
1
,
Donald Canaperi
1
1
IBM Research, Albany Nanotech, 257 Fuller Road, Albany, 12203 NY, USA
Đi đến bài gốc
Trích dẫn
Lưu lại
Báo lỗi
Tài liệu tham khảo
Thông tin
DOI
:
10.1016/j.crci.2012.03.013
Thông tin xuất bản
Nhà xuất bản:
Comptes Rendus Chimie
Tập/Số:
Tập 16
Trang:
15-20
Thông tin tác giả