Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Hướng Đến Định Hướng (200) Tăng Cường Trong Các Phim Nanocomposite FeCo/SiO2 Bằng Phương Pháp Sol-Gel Spin-Coating Trên Lớp Đệm Al
Tóm tắt
Các lớp đệm Al với độ dày khác nhau đã được lắng đọng trên các nền Si (100) bằng phương pháp phun màng từ tính DC, sau đó các phim nanocomposite FeCo/SiO2 được chế tạo trên lớp đệm Al thông qua phương pháp sol-gel spin-coating kết hợp với kỹ thuật khử hydro. Các tác động của độ dày lớp đệm Al đến cấu trúc và tính chất từ đã được nghiên cứu thông qua nhiễu xạ tia X và máy đo từ trường mẫu rung. Kết quả cho thấy tỷ lệ cường độ tích hợp I
(200)/I
(110) của các đỉnh nhiễu xạ (200) và (110) của FeCo, cũng như độ từ tính bão hòa của các phim đầu tiên tăng rồi giảm, trong khi độ từ trở đầu tiên giảm rồi tăng với độ dày lớp đệm Al tăng lên. Mẫu có lớp đệm Al dày 3 nm có giá trị I
(200)/ I
(110) lớn nhất đạt 13, cho thấy rằng FeCo trong phim có kết cấu (200) mạnh, và phim có tính chất từ mềm tốt nhất với độ từ tính bão hòa tối đa và độ từ trở tối thiểu.
Từ khóa
#lớp đệm Al #phim nanocomposite FeCo/SiO2 #phương pháp sol-gel spin-coating #độ từ tính #nhiễu xạ tia X.Tài liệu tham khảo
Hasani, S., Shamanian, M., Shafyei, A., Behjati, P., Nezakat, M., Fathi-Moghaddam, M., Szpunar, J.A.: J. Magn. Magn. Mater. 378, 253–260 (2015)
Tung, D.K., Manh, D.H., Phong, P.T., Phong, L.T.H., Dai, N.V., Nam, D.N.H., Phuc, N.X.: J. Alloy. Compd. 640, 34–38 (2015)
Cao, Y., Yang, B., Yang, X.Y., Zhang, L., Li, R., Yu, R.H.: J. Supercond. Nov. Magn. 28, 1863–1869 (2015)
Wang, B., Oomiya, H., Arakawa, A., Hasegawa, T., Ishio, S.: J. Appl. Phys. 115, 133908 (2014)
Xi, L., Du, J.H., Zhou, J.J., Ma, J.H., Li, X.Y., Wang, Z., Zuo, Y.L., Xue, D.S.: Thin Solid Films 520, 5421–5425 (2012)
Wang, X., Zheng, F., Liu, Z., Liu, X., Wei, D., Wei, F.: J. Appl. Phys. 105, 07B714 (2009)
Mašín, M., Bergqvist, L., Kudrnovský, J., Kotrla, M., Drchal, V.: J. Supercond. Nov. Magn. 26, 809–812 (2013)
Roy, R.K., Shen, S., Kernion, S.J., McHenry, M.E.: J. Appl. Phys. 111, 07A301 (2012)
Liu, B.L., Yang, Y., Tang, D.M., Chen, J.W., Lu, H.X., Lu, M., Shi, Y.: J. Appl. Phys. 107, 03391 (2010)
Li, Y.B., Li, Z.H., Liu, X., Fu, Y., Wei, F.L., Kamzin, A.S., Wei, D.: J. Appl. Phys. 107, 09A325 (2010)
Sun, C.J., Liu, B.H., Wang, J.P.: J. Appl. Phys. 97, 10J103 (2005)
Lukaszew, R.A., Cebollada, A., Cleavero, C.: Phys. B 384, 15–18 (2006)
Mlyńczak, E., Matlak, B., Lozio-Rachwa, A., Gurgul, J., Spiridis, N., Korecki, J.: Phys. Rev. B 88, 085442 (2013)