Direct Measurement of the Softening of<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">V</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>3</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>Si at Low Temperature

American Physical Society (APS) - Tập 148 Số 2 - Trang 662-664
J. R. Patel1, B. W. Batterman1
1Bell Telephone Laboratories, Murray Hill, New Jersey

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

B. W. Batterman, 1964, Phys. Rev. Letters, 13, 390, 10.1103/PhysRevLett.13.390

B. W. Batterman, 1966, Phys. Rev., 145, 296, 10.1103/PhysRev.145.296

L. Testardi, 1965, Phys. Rev. Letters, 15, 537, 10.1103/PhysRevLett.15.250

D. B. Novotny, 1965, Acta Met., 13, 881, 10.1016/0001-6160(65)90079-9

J. R. Patel, 1966, J. Appl. Phys., 3447, 10.1063/1.1708879

Thông tin
Thông tin xuất bản

American Physical Society (APS)

Tập 148 Số 2

662-664

Thông tin tác giả