Nội dung được dịch bởi AI, chỉ mang tính chất tham khảo
Theo dõi khuyết tật cho công nghệ lithography nanoimprint bằng máy quét bề mặt quang học và kính hiển vi điện tử quét
Tóm tắt
Máy quét bề mặt quang học tốc độ cao được sử dụng kết hợp với kính hiển vi điện tử quét có độ phân giải cao để hỗ trợ việc xác định và theo dõi các khuyết tật trong nanoimprint. Chúng tôi đã xác nhận rằng các hạt cứng gây ra hư hỏng vĩnh viễn cho khuôn trong quá trình in, dẫn đến việc xuất hiện các khuyết tật in lặp lại. Do các chất ô nhiễm gặp phải trong quá trình in chủ yếu là các hạt oxit kim loại cứng có khả năng gây ra những hư hỏng như vậy, việc kiểm tra độ sạch nghiêm ngặt cho nền trước khi in là một yêu cầu quan trọng trong môi trường sản xuất.
Từ khóa
#nanoimprint #quét bề mặt quang học #kính hiển vi điện tử quét #khuyết tật #oxit kim loại cứngTài liệu tham khảo
T. Bailey, B. Smith, B.J. Choi, M. Colburn, M. Meissl, S.V. Sreenivasan, J.G. Ekerdt, C.G. Wilson, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2806 (2001)
T. Bailey, B.J. Choi, M. Colburn, M. Meissl, S. Shaya, J.G. Ekerdt, S.V. Sreenivasan, C.G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3572 (2000)
S. Chou, P. Krauss, P. Renstom, Science 272, 85 (1996)
M. Colburn, I. Suez, B.J. Choi, M. Meissl, T. Bailey, S.V. Sreenivasan, J.G. Ekerdt, C.G. Wilson, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2685 (2001)
L. Bechtler, V. Velidandla, Proc. SPIE vol. 4944, Integrated Optical Devices: Fabrication and Testing 109 (2003)
P. Lilienfeld, Aerosol Sci. Technol. 5, 145 (1990)
T. Hattori, Solid State Technol. 33(7), S1–S8 (1990)
W. Kern, J. Electrochem. Soc. 137, 1887 (1990)