D-C Dielectric Breakdown of Amorphous Silicon Dioxide Films at Room Temperature

Journal of the Electrochemical Society - Tập 115 Số 1 - Trang 88 - 1968
F. L. Worthing1
1Bell Telephone Laboratories, Incorporated Murray Hill, New Jersey

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo