Application of Chemical Mechanical Polishing to the Fabrication of VLSI Circuit Interconnections

Journal of the Electrochemical Society - Tập 138 Số 6 - Trang 1778-1784 - 1991
W. Patrick1, W. L. Guthrie1, C. L. Standley1, Paul M. Schiable1
1IBM General Technology Division, East Fishkill Facility, Hopewell Junction, New York 12533

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo