An RBS study on the annealing behaviour of Cu thin films on brominated Si(111) and Si(100) substrates

Elsevier BV - Tập 71 - Trang 308-313 - 1992
K. Sekar1, P.V. Satyam1, G. Kuri1, D.P. Mahapatra2, B.N. Dev1
1Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar 751005, India
2Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar-751005, India

Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Elsevier BV

Tập 71

308-313

Thông tin tác giả