A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities

Surface and Coatings Technology - Tập 122 Số 2-3 - Trang 290-293 - 1999
V. Kouznetsov1, K. Macák1, Jochen M. Schneider1, Ulf Helmersson1, I. Petrov2
1Department of Physics, Linköping University, SE-581 83 Linköping, Sweden
2Materials Science Department and Materials Research Laboratory, University of Illinois, Urbana, IL 61801, USA

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Lehnert, 1971, Nucl. Fusion, 11, 485, 10.1088/0029-5515/11/5/010

Posadowski, 1995, Vacuum, 46, 1017, 10.1016/0042-207X(95)00096-8

R. Gruen, Process and apparatus for coating conducting pieces using a pulsed glow discharge, US Patent 5015493, May 14, 1991.

Window, 1986, J. Vac. Sci. Technol. A, 4, 453, 10.1116/1.573904

S. Schiller, personal communication.

Petrov, 1994, J. Vac. Sci. Technol. A, 12, 2846, 10.1116/1.578955

Rossnagel, 1994, J. Vac. Sci. Technol. B, 12, 449, 10.1116/1.587142

Thông tin
Thông tin xuất bản

Surface and Coatings Technology

Tập 122 Số 2-3

290-293

Thông tin tác giả