A novel, organic, UV-sensitive resist ideal for nanoimprint-, photo- and laser lithography in an air atmosphere

S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4129 (1996).

L. J. Guo, J. Phys. D Appl. Phys. 37, 123 (2004).

L. J. Guo, Adv. Mater. 19, 495 (2007).

H. Schift, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 458 (2008).

A. I. M. Greer, K. Sunarine, A. Z. Khokhar, X. Li, D. A. J. Moran, and N. Gadegaard, PSS(a) 209, 1721 (2012).

A. I. M. Greer, K. Sunarine, A. Z. Khokhar, I. MacLaren, A. S. Brydone, D. A. J. Moran, and N. Gadegaard, Microelectron. Eng. 112, 67 (2013).

S. Murthy, M. Falcon, S. Sreenivasan, and D. Dance, in P Soc. Photo-opt Ins., pp. 964–975 (2005).

S. Sreenivasan, C. G. Willson, N. E. Schumaker, and D. J. Resnick, in Proc. SPIE, 4688, 903–909 (2002).

S. Park, G. Kim, K. Choi, and J. Lee, Microelectron. Eng. 87, 968 (2010).

A. Z. Khokhar, A. Gaston, I. Obieta, and N. Gadegaard, Microelectron. Eng. 88, 3347 (2011).

I. Vasiev, A. I. M. Greer, A. Z. Khokhar, J. Stromonth-Darling, K. E. Tanner, and N. Gadegaard, Microelectron. Eng. 108, 76 (2013).

M. Svoboda, W. Schrott, Z. Slouka, M. Pribyl, and D. Šnita, Microelectron. Eng. 87, 1527 (2010).

T.-K. Shih, C.-F. Chen, J.-R. Ho, and F.-T. Chuang, Microelectron. Eng. 83, 2499 (2006).

K. MicroChem, http://www.microchem.com, (2014).

M. J. Dalby, N. Gadegaard, R. Tare, A. Andar, M.O. Riehle, P. Herzyk, C. D. W. Wilkinson, and R. O. C. Oreffo, Nat. Mater. 6, 997 (2007).

R. J. McMurray, N. Gadegaard, M. P. Tsimbouri, K. V. Burgess, L. E. McNamara, R. Tare, K. Murawski, E. Kingham, R. O. C. Oreffo, and M. J. Dalby, Nat. Mater. 10, 637 (2011).

M. J. Dalby, N. Gadegaard, and R. O. Oreffo, Nat. Mater. 13, 558 (2014).

R. Fader, H. Schmitt, M. Rommel, A. J. Bauer, L. Frey, R. Ji, M. Hornung, M. Brehm, and M. Vogler Microelectron. Eng. 98, 238 (2012).

H. Schmitt, P. Duempelmann, R. Fader, M. Rommel, A. J. Bauer, L. Frey, M. Brehm, and A. Kraft, Microelectron. Eng. 98, 275 (2012).

J. Kim, U. Plachetka, C. Moormann, and H. Kurz, Microelectron. Eng. 110, 403 (2013).