A Negative-Ion Type Instability in MOS Devices

Journal of the Electrochemical Society - Tập 119 Số 2 - Trang 165 - 1972
E. S. Schlegel1, G.L. Schnable2
1Westinghouse Research Laboratories, Beulah Road, Churchill Boro, Pittsburgh, Pennsylvania 15235.
2RCA Corporation, David Sarnoff Research Center, Princeton, New Jersey 08540.

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Journal of the Electrochemical Society

Tập 119 Số 2

165

Thông tin tác giả