Polymeric Photocatalysts Based on Graphitic Carbon Nitride

Advanced Materials - Tập 27 Số 13 - Trang 2150-2176 - 2015
Shaowen Cao1, Jingxiang Low1, Jiaguo Yu2,1, Mietek Jaroniec3
1State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, 122 Luoshi Road, Wuhan, 430070, PR China
2Department of Physics, Faculty of Science, King Abdulaziz University, Jeddah 21589, Saudi Arabia
3Department of Chemistry and Biochemistry, Kent State University, Kent, OH 44242, USA

Tóm tắt

Semiconductor‐based photocatalysis is considered to be an attractive way for solving the worldwide energy shortage and environmental pollution issues. Since the pioneering work in 2009 on graphitic carbon nitride (g‐C3N4) for visible‐light photocatalytic water splitting, g‐C3N4‐based photocatalysis has become a very hot research topic. This review summarizes the recent progress regarding the design and preparation of g‐C3N4‐based photocatalysts, including the fabrication and nanostructure design of pristine g‐C3N4, bandgap engineering through atomic‐level doping and molecular‐level modification, and the preparation of g‐C3N4‐based semiconductor composites. Also, the photo­catalytic applications of g‐C3N4‐based photocatalysts in the fields of water splitting, CO2 reduction, pollutant degradation, organic syntheses, and bacterial disinfection are reviewed, with emphasis on photocatalysis promoted by carbon materials, non‐noble‐metal cocatalysts, and Z‐scheme heterojunctions. Finally, the concluding remarks are presented and some perspectives regarding the future development of g‐C3N4‐based photocatalysts are highlighted.

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

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